物理气相沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721543014.3

申请日：

2017-11-17

公开(公告)号：

CN207918947U

公开(公告)日：

2018-09-28

发明(设计)人：

李扬德卢昆高宽

申请人：

申请人地址：

523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区沁园路1号寄莲公寓D栋616单元

IPC主分类号：

C23C1450

IPC分类号：

代理机构：

广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288

代理人：

罗伟添;秦维

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-09-28	授权	授权

共 50 条

[1]

物理气相沉积设备和物理气相沉积方法 [P].

李扬德 ;

卢昆 ;

高宽 .

中国专利 :CN107723675A ,2018-02-23

[2]

物理气相沉积设备 [P].

何龑 ;

杨小军 .

中国专利 :CN202705452U ,2013-01-30

[3]

物理气相沉积设备 [P].

尹勇 .

中国专利 :CN214458275U ,2021-10-22

[4]

用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备 [P].

陈杰锋 ;

李理 .

中国专利 :CN208667840U ,2019-03-29

[5]

物理气相沉积设备及物理气相沉积工艺 [P].

边国栋 .

中国专利 :CN103572211B ,2014-02-12

[6]

物理气相沉积PVD设备 [P].

王磊 ;

付涛 ;

洪方 ;

赵虎 ;

邱阳 ;

岑金良 .

中国专利 :CN119265517A ,2025-01-07

[7]

物理气相沉积PVD设备 [P].

杨涛 .

中国专利 :CN209338643U ,2019-09-03

[8]

物理气相沉积设备的靶材单元及物理气相沉积设备 [P].

杨涛 ;

黄云岭 .

中国专利 :CN208594329U ,2019-03-12

[9]

物理气相沉积设备 [P].

尹勇 .

中国专利 :CN114381692A ,2022-04-22

[10]

物理气相沉积设备 [P].

周云 ;

宋维聪 ;

潘钱森 ;

霍焕俊 .

中国专利 :CN110527967B ,2019-12-03

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