物理气相沉积PVD设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201821730530.1
申请日
2018-10-24
公开(公告)号
CN209338643U
公开(公告)日
2019-09-03
发明(设计)人
杨涛
申请人
申请人地址
100176 北京市北京经济技术开发区荣昌东街7号院6号楼3001室
IPC主分类号
C23C1422
IPC分类号
代理机构
北京智晨知识产权代理有限公司 11584
代理人
张婧
法律状态
授权
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
物理气相沉积PVD设备 [P]. 
王磊 ;
付涛 ;
洪方 ;
赵虎 ;
邱阳 ;
岑金良 .
中国专利 :CN119265517A ,2025-01-07
[2]
物理气相沉积设备 [P]. 
何龑 ;
杨小军 .
中国专利 :CN202705452U ,2013-01-30
[3]
物理气相沉积设备 [P]. 
尹勇 .
中国专利 :CN214458275U ,2021-10-22
[4]
物理气相沉积设备 [P]. 
李扬德 ;
卢昆 ;
高宽 .
中国专利 :CN207918947U ,2018-09-28
[5]
用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备 [P]. 
陈杰锋 ;
李理 .
中国专利 :CN208667840U ,2019-03-29
[6]
物理气相沉积设备及物理气相沉积工艺 [P]. 
边国栋 .
中国专利 :CN103572211B ,2014-02-12
[7]
物理气相沉积设备和物理气相沉积方法 [P]. 
李扬德 ;
卢昆 ;
高宽 .
中国专利 :CN107723675A ,2018-02-23
[8]
物理气相沉积设备的靶材单元及物理气相沉积设备 [P]. 
杨涛 ;
黄云岭 .
中国专利 :CN208594329U ,2019-03-12
[9]
物理气相沉积设备 [P]. 
尹勇 .
中国专利 :CN114381692A ,2022-04-22
[10]
物理气相沉积设备 [P]. 
周云 ;
宋维聪 ;
潘钱森 ;
霍焕俊 .
中国专利 :CN110527967B ,2019-12-03