物理气相沉积处理方法和物理气相沉积处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811477893.3

申请日：

2018-12-05

公开(公告)号：

CN109868456B

公开(公告)日：

2019-06-11

发明(设计)人：

前田幸治横原宏行曽根浩宫下哲也

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1450 C23C1408 C23C1416

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-07-05	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20181205
2019-06-11	公开	公开
2021-12-28	授权	授权

共 50 条

[1]

物理气相沉积设备和物理气相沉积方法 [P].

李扬德 ;

卢昆 ;

高宽 .

中国专利 :CN107723675A ,2018-02-23

[2]

物理气相沉积装置及物理气相沉积方法 [P].

汤本敦史 ;

丹羽直毅 ;

广木富士男 ;

山本刚久 .

中国专利 :CN102131951A ,2011-07-20

[3]

物理气相沉积腔室和物理气相沉积设备 [P].

郭宏瑞 ;

李冰 ;

黄其伟 .

中国专利 :CN110885965A ,2020-03-17

[4]

物理气相沉积设备及物理气相沉积工艺 [P].

边国栋 .

中国专利 :CN103572211B ,2014-02-12

[5]

用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备 [P].

陈杰锋 ;

张辉 .

中国专利 :CN108950510A ,2018-12-07

[6]

物理气相沉积线圈的处理方法及物理气相沉积线圈结构 [P].

聂佳相 .

中国专利 :CN101956156A ,2011-01-26

[7]

用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备 [P].

陈杰锋 ;

李理 .

中国专利 :CN208667840U ,2019-03-29

[8]

用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备 [P].

白志民 ;

李萌 ;

邱国庆 ;

佘清 ;

王厚工 ;

赵梦欣 ;

丁培军 .

中国专利 :CN106637124A ,2017-05-10

[9]

物理气相沉积装置 [P].

吕铀 .

中国专利 :CN103820758B ,2014-05-28

[10]

物理气相沉积装置 [P].

胡油东 ;

周伟 .

中国专利 :CN223061058U ,2025-07-04

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