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工艺套件及物理气相沉积设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411129913.3
申请日
:
2024-08-16
公开(公告)号
:
CN118996364A
公开(公告)日
:
2024-11-22
发明(设计)人
:
潘兴强
李靖
申请人
:
宸微设备科技(苏州)有限公司
申请人地址
:
215299 江苏省苏州市吴江区江陵街道芦荡路228号
IPC主分类号
:
C23C14/50
IPC分类号
:
C23C14/34
C23C14/54
代理机构
:
上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327
代理人
:
高静
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-12-10
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/50申请日:20240816
2024-11-22
公开
公开
共 50 条
[1]
物理气相沉积设备及物理气相沉积工艺
[P].
边国栋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
边国栋
.
中国专利
:CN103572211B
,2014-02-12
[2]
物理气相沉积装置及物理气相沉积方法
[P].
汤本敦史
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
汤本敦史
;
丹羽直毅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
丹羽直毅
;
广木富士男
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
广木富士男
;
山本刚久
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
山本刚久
.
中国专利
:CN102131951A
,2011-07-20
[3]
混合还原物理气相沉积方法及物理气相沉积设备
[P].
廖俊彦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
廖俊彦
;
李易
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李易
;
张淑兰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张淑兰
;
林圣轩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林圣轩
;
张峰瑜
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张峰瑜
;
林威戎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林威戎
;
蔡纯怡
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡纯怡
;
纪志坚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
纪志坚
;
蔡明兴
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡明兴
;
张珮珊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张珮珊
;
张志维
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张志维
.
中国专利
:CN119162539A
,2024-12-20
[4]
静电吸盘、物理气相沉积腔室及物理气相沉积设备
[P].
李昇聪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
李昇聪
.
中国专利
:CN220767151U
,2024-04-12
[5]
物理气相沉积设备的靶材单元及物理气相沉积设备
[P].
杨涛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杨涛
;
黄云岭
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
黄云岭
.
中国专利
:CN208594329U
,2019-03-12
[6]
物理气相沉积设备的准直装置及物理气相沉积设备
[P].
刘建军
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
刘建军
.
中国专利
:CN119020736A
,2024-11-26
[7]
防着板及物理气相沉积设备
[P].
胡小波
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
胡小波
.
中国专利
:CN108588642A
,2018-09-28
[8]
镀膜装置及物理气相沉积设备
[P].
景江
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
景江
;
陈昀德
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈昀德
;
崔赢兮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
崔赢兮
;
乔慧娜
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
乔慧娜
;
刘正德
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘正德
;
彭乐
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
彭乐
;
孙禄标
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
孙禄标
.
中国专利
:CN110106481A
,2019-08-09
[9]
传输结构及物理气相沉积设备
[P].
李冰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李冰
.
中国专利
:CN206887217U
,2018-01-16
[10]
用于物理气相沉积设备的护罩结构以及物理气相沉积设备
[P].
王大为
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王大为
;
吴孝哲
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
吴孝哲
;
吴龙江
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
吴龙江
;
林宗贤
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
林宗贤
.
中国专利
:CN110004418A
,2019-07-12
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