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一种用于湿法工艺的晶圆清洗槽

被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201921982298.5
申请日：
2019-11-15
公开(公告)号：
CN210692498U
公开(公告)日：
2020-06-05
发明(设计)人：
庄海云 李志峰 王雪松 陈佳炜
申请人：
申请人地址：
200241 上海市闵行区紫海路170号1幢3层03室
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
上海远同律师事务所 31307
代理人：
张坚
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2020-06-05 授权 授权
共 50 条
[1]
一种湿法清洗槽的活动晶圆夹具 [P]. 
戴文俊 .
中国专利 :CN204204827U ,2015-03-11
[2]
一种湿法工艺的晶圆清洗平台 [P]. 
刘大威 ;
邓信甫 ;
徐铭 .
中国专利 :CN114496896A ,2022-05-13
[3]
一种湿法工艺的晶圆清洗平台 [P]. 
刘大威 ;
邓信甫 ;
徐铭 .
中国专利 :CN114496896B ,2025-09-12
[4]
晶圆湿法清洗装置 [P]. 
云巴图 ;
陈章晏 ;
丁洋 ;
颜超仁 .
中国专利 :CN209981178U ,2020-01-21
[5]
一种用于湿法工艺的晶圆片架 [P]. 
彭信军 .
中国专利 :CN216288347U ,2022-04-12
[6]
晶圆清洗槽 [P]. 
刘佳鑫 ;
童灿钊 ;
赵冬冬 ;
李迁 ;
巫礼杰 ;
仰瑞 ;
高云峰 .
中国专利 :CN214516283U ,2021-10-29
[7]
晶圆清洗槽 [P]. 
孙彩霞 ;
肖锦成 ;
郭永强 .
中国专利 :CN222462846U ,2025-02-11
[8]
一种用于清洗半导体晶圆的清洗槽 [P]. 
厉心宇 .
中国专利 :CN204257600U ,2015-04-08
[9]
用于清洗半导体圆晶的清洗槽 [P]. 
陈铁龙 ;
林智颖 ;
陈坤 ;
张振 ;
孙东初 .
中国专利 :CN215198490U ,2021-12-17
[10]
一种用于湿法晶圆的清洗装置 [P]. 
贺贤汉 ;
杉原一男 ;
佐藤泰幸 ;
原英樹 .
中国专利 :CN217788339U ,2022-11-11
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