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一种相变材料化学机械抛光设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202120204856.6
申请日
:
2021-01-26
公开(公告)号
:
CN214322940U
公开(公告)日
:
2021-10-01
发明(设计)人
:
熊德博
姜洋
吴凤瑛
周亚
郭梦晓
申请人
:
申请人地址
:
250101 山东省济南市历城区凤鸣路1000号山东建筑大学
IPC主分类号
:
B24B2900
IPC分类号
:
B24B4106
B24B4100
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-10-01
授权
授权
共 50 条
[1]
一种相变材料化学机械抛光设备
[P].
李品华
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李品华
.
中国专利
:CN211136736U
,2020-07-31
[2]
一种相变材料化学机械抛光设备
[P].
李东平
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李东平
.
中国专利
:CN204565845U
,2015-08-19
[3]
化学机械抛光设备
[P].
请求不公布姓名
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0
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机构:
江苏元夫半导体科技有限公司
江苏元夫半导体科技有限公司
请求不公布姓名
.
中国专利
:CN221621863U
,2024-08-30
[4]
一种相变材料化学机械抛光方法
[P].
何敖东
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何敖东
;
宋志棠
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宋志棠
;
刘波
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刘波
;
王良咏
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王良咏
;
刘卫丽
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刘卫丽
.
中国专利
:CN103497688B
,2014-01-08
[5]
化学机械抛光方法和化学机械抛光设备
[P].
邵群
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邵群
;
王庆玲
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王庆玲
.
中国专利
:CN103035504B
,2013-04-10
[6]
化学机械抛光设备及化学机械抛光方法
[P].
朱慧珑
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朱慧珑
;
钟汇才
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钟汇才
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梁擎擎
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梁擎擎
;
赵超
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赵超
.
中国专利
:CN102756323A
,2012-10-31
[7]
化学机械抛光设备和化学机械抛光方法
[P].
唐强
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唐强
.
中国专利
:CN108115553A
,2018-06-05
[8]
化学机械抛光设备与化学机械抛光工艺
[P].
胡俊汀
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胡俊汀
;
谢祖怡
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谢祖怡
;
曾子育
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曾子育
;
郭永杰
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郭永杰
;
白弘吉
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白弘吉
.
中国专利
:CN1986157A
,2007-06-27
[9]
化学机械抛光设备及化学机械抛光方法
[P].
李洪阳
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机构:
华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
李洪阳
;
陈映松
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华海清科(北京)科技有限公司
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陈映松
;
许振杰
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机构:
华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
许振杰
;
李长坤
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机构:
华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
李长坤
;
王科
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机构:
华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
王科
.
中国专利
:CN120134207B
,2025-08-19
[10]
化学机械抛光设备及化学机械抛光方法
[P].
李洪阳
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机构:
华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
李洪阳
;
陈映松
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华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
陈映松
;
许振杰
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华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
许振杰
;
李长坤
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机构:
华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
李长坤
;
王科
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机构:
华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
王科
.
中国专利
:CN120862551A
,2025-10-31
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