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等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110489743.X
申请日：
2021-05-06
公开(公告)号：
CN113675064A
公开(公告)日：
2021-11-19
发明(设计)人：
金俸奭 小林宪 大秦充敬 裴允淏
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01J3732
IPC分类号：
代理机构：
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人：
龙淳;王昊
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2021-11-19 公开 公开
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 ;
山泽阳平 .
中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
松本直树 ;
舆水地盐 ;
舆石公 .
中国专利 :CN100446637C ,2006-10-04
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 ;
山泽阳平 .
中国专利 :CN101847558B ,2010-09-29
[4]
等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
向山广记 ;
户村幕树 ;
木原嘉英 ;
福井信志 .
日本专利 :CN118284956A ,2024-07-02
[5]
等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
米泽隆宏 .
日本专利 :CN119895546A ,2025-04-25
[6]
等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
李诚泰 ;
土桥和也 .
中国专利 :CN102347231B ,2012-02-08
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
山泽阳平 ;
齐藤昌司 ;
传宝一树 ;
輿水地盐 ;
山涌纯 .
中国专利 :CN102056396A ,2011-05-11
[8]
等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
中村纮一郎 ;
清藤规久 .
日本专利 :CN118613899A ,2024-09-06
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
里吉务 ;
佐藤亮 ;
佐佐木和男 ;
齐藤均 .
中国专利 :CN100543944C ,2005-11-09
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
岩田学 ;
中山博之 ;
增泽健二 ;
本田昌伸 .
中国专利 :CN101515545B ,2009-08-26
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