氧化铝层的沉积

被引：0

申请号：

CN202210047507.7

申请日：

2017-11-14

公开(公告)号：

CN114582709A

公开(公告)日：

2022-06-03

发明(设计)人：

梅里哈·歌德·兰维尔纳格拉杰·尚卡尔卡普·斯里什·雷迪丹尼斯·M·豪斯曼

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L213205 H01L213213 H01L21768

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

樊英如;张静

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20171114
2022-06-03	公开	公开

共 50 条

[1]

氧化铝蚀刻停止层的沉积 [P].

梅里哈·哥德·兰维尔 ;

纳格拉杰·尚卡尔 ;

卡普·斯里什·雷迪 ;

丹尼斯·M·豪斯曼 .

中国专利 :CN108133880A ,2018-06-08

[2]

提高氧化铝原子层沉积速率的方法 [P].

杨淋淋 ;

邢中豪 ;

冯秦旭 ;

林建树 ;

梁金娥 ;

李宗旭 ;

张守龙 .

中国专利 :CN118116791A ,2024-05-31

[3]

氧化铝沉积设备及供气方法 [P].

赵环 ;

白进谦 ;

王朝辉 .

中国专利 :CN112144043B ,2020-12-29

[4]

一种用原子层沉积技术生长氧化铝的工艺 [P].

刘佳晶 ;

陈艳明 ;

叶武阳 ;

温丽娜 .

中国专利 :CN110760818A ,2020-02-07

[5]

一种PERC电池中氧化铝膜的沉积方法 [P].

赵颖 ;

厉文斌 ;

任勇 ;

何悦 .

中国专利 :CN112838143A ,2021-05-25

[6]

沉积氧化铝涂层的方法 [P].

M·P·小雷明顿 ;

D·A·斯特里克勒 ;

S·瓦拉纳斯 ;

L·叶 .

中国专利 :CN101014547A ,2007-08-08

[7]

沉积氧化铝涂层的方法 [P].

马乔里·克里斯蒂娜·卡瓦罗克 ;

埃尔万·佩格尼 ;

西里尔·艾莫尼尔 ;

纪尧姆·奥伯特 ;

安热莉克·纳丁·珍妮·普隆 .

法国专利 :CN119948205A ,2025-05-06

[8]

一种原子层沉积超薄氧化铝薄膜的装置及方法 [P].

陈强 ;

桑利军 ;

李兴存 .

中国专利 :CN101921994B ,2010-12-22

[9]

一种低频PECVD沉积氧化铝的方法 [P].

赵增超 .

中国专利 :CN110699674A ,2020-01-17

[10]

织构化的氧化铝层 [P].

托米·拉尔森 ;

马茨·约翰松 .

中国专利 :CN102933742B ,2013-02-13

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