用于击穿电压改进的功率器件上部分SOI

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310173217.8
申请日
2013-05-10
公开(公告)号
CN103855140B
公开(公告)日
2014-06-11
发明(设计)人
林隆世 杨富雄 黄坤铭 林明毅 褚伯韬
申请人
申请人地址
中国台湾新竹
IPC主分类号
H01L2507
IPC分类号
H01L2198
代理机构
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
章社杲;孙征
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
沟槽栅功率器件及提高沟槽栅器件栅极击穿电压的方法 [P]. 
卢烁今 .
中国专利 :CN111883584A ,2020-11-03
[2]
减少沟道功率器件的源漏击穿电压蠕变的方法 [P]. 
张怡 .
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[3]
用于功率半导体器件的改进的锯齿电场漂移区域结构 [P]. 
马督儿·博德 .
中国专利 :CN102842598B ,2012-12-26
[4]
用于功率半导体器件的改进的锯齿电场漂移区域结构 [P]. 
马督儿·博德 .
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[5]
一种用于负电源电压的薄层SOI集成功率器件 [P]. 
乔明 ;
王猛 ;
胡曦 ;
庄翔 ;
赖力 ;
赵远远 ;
张波 .
中国专利 :CN102024825B ,2011-04-20
[6]
一种提高SOI器件击穿电压的器件新结构 [P]. 
徐帆 ;
牟志强 ;
蒋乐乐 .
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[7]
提高氮化镓基功率器件击穿电压的外延方法 [P]. 
闫发旺 ;
张峰 ;
赵倍吉 ;
刘春雪 ;
李晨 .
中国专利 :CN106876257B ,2017-06-20
[8]
具有低通态电阻、高击穿电压的功率器件 [P]. 
步健康 .
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[9]
一种提高GaN功率器件击穿电压的外延结构 [P]. 
白欣娇 ;
李帅 ;
崔素杭 .
中国专利 :CN209487513U ,2019-10-11
[10]
功率MOS器件的源漏击穿电压测试方法 [P]. 
李晶晶 ;
谢晋春 .
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