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半导体工艺腔室的清洗控制方法及半导体工艺腔室
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110230759.9
申请日：
2021-03-02
公开(公告)号：
CN113035749A
公开(公告)日：
2021-06-25
发明(设计)人：
尤艳艳
申请人：
申请人地址：
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人：
彭瑞欣;王婷
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-06-25 | 公开 | 公开 |
| 2021-07-13 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20210302 |