CMP工艺抛光垫的修整装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610041652.9

申请日：

2016-01-21

公开(公告)号：

CN105500208A

公开(公告)日：

2016-04-20

发明(设计)人：

夏秋良

申请人：

申请人地址：

215123 江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号纳米城西北区20幢1楼南

IPC主分类号：

B24B53017

IPC分类号：

代理机构：

无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104

代理人：

曹祖良;韩凤

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-10-08	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B24B 53/017 申请公布日:20160420
2016-05-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101660908650 IPC(主分类):B24B 53/017 专利申请号:2016100416529 申请日:20160121
2016-04-20	公开	公开

共 50 条

[1]

CMP工艺抛光垫的修整装置 [P].

夏秋良 .

中国专利 :CN205363592U ,2016-07-06

[2]

抛光垫修整装置 [P].

魏昕 ;

熊伟 ;

袁慧 ;

胡伟 .

中国专利 :CN2868553Y ,2007-02-14

[3]

抛光垫的修整方法、修整装置、抛光垫及双面抛光装置 [P].

白宗权 ;

具成旻 ;

崔世勋 ;

李昀泽 .

中国专利 :CN109551360B ,2019-04-02

[4]

抛光垫修整装置及修整方法 [P].

魏昕 ;

熊伟 ;

袁慧 ;

胡伟 .

中国专利 :CN1792553B ,2006-06-28

[5]

抛光垫修整装置 [P].

袁巨龙 ;

陶黎 ;

邓乾发 ;

陈锋 ;

杨翊 ;

方海生 ;

王志伟 ;

吕冰海 .

中国专利 :CN201115932Y ,2008-09-17

[6]

抛光垫修整装置 [P].

袁巨龙 ;

陶黎 ;

邓乾发 ;

陈锋 ;

杨翊 ;

方海生 ;

王志伟 ;

吕冰海 .

中国专利 :CN100546770C ,2008-04-30

[7]

抛光垫修整装置和抛光垫修整方法 [P].

王浩 .

中国专利 :CN117718887A ,2024-03-19

[8]

抛光垫修整装置和抛光垫修整方法 [P].

郑凯铭 .

中国专利 :CN111775044A ,2020-10-16

[9]

抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统 [P].

姚力军 ;

大岩一彦 ;

相原俊夫 ;

潘杰 ;

王学泽 .

中国专利 :CN104209864A ,2014-12-17

[10]

一种抛光垫修整装置 [P].

刘昊 .

中国专利 :CN213004676U ,2021-04-20

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