用于OLED像素沉积的金属材料沉积掩模及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880058019.8

申请日：

2018-08-24

公开(公告)号：

CN111066169A

公开(公告)日：

2020-04-24

发明(设计)人：

白智钦金海植曹荣得李相侑曹守铉孙晓源

申请人：

申请人地址：

韩国首尔

IPC主分类号：

H01L5156

IPC分类号：

H01L5100 H01L2102 C23C1422 H01L2166 H01L2732 H01L21027

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

黄霖;李新燕

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-04-24	公开	公开
2020-05-19	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 51/56 申请日:20180824

共 50 条

[1]

金属材料OLED沉积掩模 [P].

白智钦 ;

金海植 ;

曹荣得 ;

李相侑 ;

曹守铉 ;

孙晓源 .

韩国专利 :CN119465021A ,2025-02-18

[2]

用于沉积OLED像素的金属材料的沉积掩模及其制造方法 [P].

金海植 ;

白智钦 .

中国专利 :CN111295773A ,2020-06-16

[3]

金属材料OLED沉积掩模 [P].

白智钦 ;

金海植 ;

曹荣得 ;

李相侑 ;

曹守铉 ;

孙晓源 .

韩国专利 :CN119465022A ,2025-02-18

[4]

用于OLED像素沉积的沉积掩模 [P].

曹守铉 ;

成东默 ;

李相侑 .

韩国专利 :CN120226488A ,2025-06-27

[5]

金属材料OLED沉积掩模及沉积掩模的残余应力的测量方法 [P].

白智钦 ;

金海植 ;

曹荣得 ;

李相侑 ;

曹守铉 ;

孙晓源 .

韩国专利 :CN116083843B ,2025-09-16

[6]

金属板和用于OLED像素沉积的包括金属板的沉积掩模 [P].

张祐荣 .

韩国专利 :CN118542098A ,2024-08-23

[7]

用作沉积掩模的合金金属箔、沉积掩模及其制造方法以及利用该沉积掩模的有机发光元件的制造方法 [P].

郑官颢 ;

梁洪硕 ;

李载坤 ;

金县泰 ;

金基洙 .

中国专利 :CN109790628A ,2019-05-21

[8]

沉积掩模及其制造方法 [P].

郭正敏 ;

金海植 ;

白智钦 .

中国专利 :CN111433932A ,2020-07-17

[9]

沉积掩模及其制造方法 [P].

郭正敏 ;

金海植 ;

白智钦 .

韩国专利 :CN111433932B ,2024-02-09

[10]

用于OLED像素蒸镀的金属材料的蒸镀用掩模 [P].

金南昊 .

韩国专利 :CN113215526B ,2025-05-02

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