干涉仪模块

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710222191.X

申请日：

2012-03-30

公开(公告)号：

CN107036528B

公开(公告)日：

2017-08-11

发明(设计)人：

G·德博尔 T·A·乌姆斯 N·弗奇尔 G·C·A·库维利尔斯

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G01B902018

IPC分类号：

G02B2728 G03F720

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

王茂华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-17	授权	授权
2017-08-11	公开	公开
2017-09-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101745818408 IPC(主分类):G01B 9/02 专利申请号:201710222191X 申请日:20120330
2019-05-21	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):G01B 9/02 登记生效日:20190430 变更事项:申请人变更前权利人:迈普尔平版印刷IP有限公司变更后权利人:ASML荷兰有限公司变更事项:地址变更前权利人:荷兰代尔夫特变更后权利人:荷兰维德霍温

共 50 条

[1]

干涉仪模块 [P].

G·德博尔 ;

T·A·乌姆斯 ;

N·弗奇尔 ;

G·C·A·库维利尔斯 .

中国专利 :CN102735163B ,2012-10-17

[2]

差分干涉仪模块和具有差分干涉仪模块的光刻系统 [P].

G·德博尔 ;

T·A·乌姆斯 ;

N·弗奇尔 ;

G·C·A·库维利尔斯 .

中国专利 :CN202793315U ,2013-03-13

[3]

干涉仪模块和光刻系统 [P].

G·德博尔 ;

T·A·乌姆斯 ;

N·弗奇尔 ;

G·C·A·库维利尔斯 .

中国专利 :CN202793314U ,2013-03-13

[4]

具有差分干涉仪模块的光刻系统 [P].

G·德博尔 ;

T·A·乌姆斯 ;

N·弗奇尔 ;

G·C·A·库维利尔斯 .

中国专利 :CN102735170B ,2012-10-17

[5]

申东方 .

中国专利 :CN307406903S ,2022-06-17

[6]

高桥知隆 .

中国专利 :CN101430190B ,2009-05-13

[7]

林畅仁 ;

山田耕平 .

日本专利 :CN119688581A ,2025-03-25

[8]

王涛 ;

牟仲财 ;

鲜玉琼 .

中国专利 :CN3581800D ,2006-11-22

[9]

刘国淦 ;

段立峰 .

中国专利 :CN101082776A ,2007-12-05

[10]

M.迈斯纳 ;

R.耶尔格 ;

J.德雷舍尔 ;

W.霍尔扎普费尔 .

中国专利 :CN104236451B ,2014-12-24

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