干涉仪模块和光刻系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220131434.1

申请日：

2012-03-30

公开(公告)号：

CN202793314U

公开(公告)日：

2013-03-13

发明(设计)人：

G·德博尔 T·A·乌姆斯 N·弗奇尔 G·C·A·库维利尔斯

申请人：

申请人地址：

荷兰代尔夫特

IPC主分类号：

G01B902

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

陈芳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-03-13	授权	授权
2019-05-17	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G01B 9/02 登记生效日:20190428 变更事项:专利权人变更前权利人:迈普尔平版印刷IP有限公司变更后权利人:ASML荷兰有限公司变更事项:地址变更前权利人:荷兰代尔夫特变更后权利人:荷兰维德霍温
2022-04-15	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):G01B 9/02 申请日:20120330 授权公告日:20130313

共 50 条

[1]

差分干涉仪模块和具有差分干涉仪模块的光刻系统 [P].

G·德博尔 ;

T·A·乌姆斯 ;

N·弗奇尔 ;

G·C·A·库维利尔斯 .

中国专利 :CN202793315U ,2013-03-13

[2]

干涉仪系统和光刻设备 [P].

C·利德克 ;

M·K·M·巴格根 ;

M·J·詹森 ;

M·K·姆里达 .

中国专利 :CN115135955A ,2022-09-30

[3]

具有差分干涉仪模块的光刻系统 [P].

G·德博尔 ;

T·A·乌姆斯 ;

N·弗奇尔 ;

G·C·A·库维利尔斯 .

中国专利 :CN102735170B ,2012-10-17

[4]

干涉仪模块 [P].

G·德博尔 ;

T·A·乌姆斯 ;

N·弗奇尔 ;

G·C·A·库维利尔斯 .

中国专利 :CN102735163B ,2012-10-17

[5]

干涉仪模块 [P].

G·德博尔 ;

T·A·乌姆斯 ;

N·弗奇尔 ;

G·C·A·库维利尔斯 .

中国专利 :CN107036528B ,2017-08-11

[6]

自参考干涉仪、对准系统和光刻设备 [P].

L·夸迪伊 .

中国专利 :CN102402141B ,2012-04-04

[7]

用于盘绕光纤干涉仪的盘盒和光纤干涉仪模块 [P].

张建 ;

王磊 ;

王六一 .

中国专利 :CN216526386U ,2022-05-13

[8]

位置测量系统、干涉仪系统和光刻装置 [P].

C·J·C·斯库尔曼斯 ;

J·M·T·A·阿德里安斯 ;

T·沃斯 .

中国专利 :CN111971622A ,2020-11-20

[9]

一种干涉系统及其多层干涉仪、单层干涉仪、条状干涉仪 [P].

苏祖恩 ;

陆朝阳 ;

王辉 ;

贺煜 ;

庄思源 ;

潘建伟 .

中国专利 :CN206531466U ,2017-09-29

[10]

光学干涉仪 [P].

格雷格·C·菲利克斯 ;

约翰·伯克曼 .

中国专利 :CN1959336A ,2007-05-09

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