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位置测量系统、干涉仪系统和光刻装置

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201980024003.X
申请日：
2019-03-01
公开(公告)号：
CN111971622A
公开(公告)日：
2020-11-20
发明(设计)人：
C·J·C·斯库尔曼斯 J·M·T·A·阿德里安斯 T·沃斯
申请人：
申请人地址：
荷兰维德霍温
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
G01B902
代理机构：
北京市金杜律师事务所 11256
代理人：
郑振
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2020-11-20 公开 公开
2021-04-16 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20190301
共 50 条
[1]
位置测量系统、干涉仪和光刻设备 [P]. 
E·A·F·范德帕施 ;
R·E·范利尤文 .
中国专利 :CN107924133A ,2018-04-17
[2]
干涉仪系统和光刻设备 [P]. 
C·利德克 ;
M·K·M·巴格根 ;
M·J·詹森 ;
M·K·姆里达 .
中国专利 :CN115135955A ,2022-09-30
[3]
干涉仪模块和光刻系统 [P]. 
G·德博尔 ;
T·A·乌姆斯 ;
N·弗奇尔 ;
G·C·A·库维利尔斯 .
中国专利 :CN202793314U ,2013-03-13
[4]
激光干涉仪测量系统 [P]. 
张晨 ;
江旭初 .
中国专利 :CN220288635U ,2024-01-02
[5]
位置测量系统和光刻装置 [P]. 
W·O·普里尔 ;
E·J·M·尤森 ;
E·A·F·范德帕斯奇 .
中国专利 :CN1924708A ,2007-03-07
[6]
斐索干涉仪及干涉测量系统 [P]. 
宋金龙 ;
董磊 ;
张海 .
中国专利 :CN119164283A ,2024-12-20
[7]
斐索干涉仪及干涉测量系统 [P]. 
宋金龙 ;
董磊 ;
张海 .
中国专利 :CN119164283B ,2025-03-18
[8]
位置测量系统和光刻设备 [P]. 
R·A·琼斯 ;
E·A·J·M·本特 .
:CN120112768A ,2025-06-06
[9]
位置测量系统和光刻设备 [P]. 
汉斯·布特勒 ;
恩格尔伯塔斯·安东尼斯·弗朗西斯克斯·范德帕什 .
中国专利 :CN101424513B ,2009-05-06
[10]
干涉仪系统、波前分析系统、投射系统、光刻装置和用于分析外差干涉仪系统的光束的波前的方法 [P]. 
M·J·詹森 .
:CN120752581A ,2025-10-03
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