位置测量系统和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380077973.2

申请日：

2023-10-10

公开(公告)号：

CN120112768A

公开(公告)日：

2025-06-06

发明(设计)人：

R·A·琼斯 E·A·J·M·本特

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰

IPC主分类号：

G01B11/00

IPC分类号：

G01D5/38

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王益

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-06	公开	公开
2025-11-18	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G01B 11/00申请日:20231010

共 50 条

[1]

位置测量系统和光刻设备 [P].

汉斯·布特勒 ;

恩格尔伯塔斯·安东尼斯·弗朗西斯克斯·范德帕什 .

中国专利 :CN101424513B ,2009-05-06

[2]

光刻设备和校准光刻设备的位置测量系统的方法 [P].

汤姆·范祖特芬 .

:CN120615179A ,2025-09-09

[3]

编码器、位置测量系统和光刻设备 [P].

W·O·普里列 ;

J·P·巴尔特曼 ;

A·E·科克尔 ;

S·J·A·G·科西晋斯 ;

B·图-米尼 .

中国专利 :CN107003617A ,2017-08-01

[4]

位置测量方法、位置测量系统以及光刻设备 [P].

吴萍 ;

付强 .

中国专利 :CN117537704A ,2024-02-09

[5]

位置测量系统、定位系统、光刻设备和器件制造方法 [P].

M·A·范德克尔克豪夫 .

:CN117546096A ,2024-02-09

[6]

位置测量系统和光刻装置 [P].

W·O·普里尔 ;

E·J·M·尤森 ;

E·A·F·范德帕斯奇 .

中国专利 :CN1924708A ,2007-03-07

[7]

位置测量系统、干涉仪和光刻设备 [P].

E·A·F·范德帕施 ;

R·E·范利尤文 .

中国专利 :CN107924133A ,2018-04-17

[8]

光刻设备和位置测量方法 [P].

E·J·M·尤斯森 ;

T·A·R·范埃佩 ;

W·O·普里 .

中国专利 :CN1758140A ,2006-04-12

[9]

位置测量系统、光刻设备以及器件制造方法 [P].

W·H·G·A·考恩 ;

E·J·M·尤森 ;

E·A·F·范德帕斯奇 ;

R·E·范莱文 ;

A·H·考沃埃特斯 .

中国专利 :CN102954761B ,2013-03-06

[10]

测量系统、方法和光刻设备 [P].

H·H·M·考克西 ;

W·H·G·A·考恩 ;

T·A·马塔尔 ;

M·T·J·彼德尔斯 ;

R·A·A·沃库伊耶 .

中国专利 :CN102298269A ,2011-12-28

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