位置测量系统、干涉仪和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680046022.9

申请日：

2016-07-29

公开(公告)号：

CN107924133A

公开(公告)日：

2018-04-17

发明(设计)人：

E·A·F·范德帕施 R·E·范利尤文

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G01B902

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

王茂华;崔卿虎

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-05-11	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20160729
2018-04-17	公开	公开
2020-09-04	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F 7/20 申请公布日:20180417

共 50 条

[1]

位置测量系统、干涉仪系统和光刻装置 [P].

C·J·C·斯库尔曼斯 ;

J·M·T·A·阿德里安斯 ;

T·沃斯 .

中国专利 :CN111971622A ,2020-11-20

[2]

光刻设备、透镜干涉仪和装置制造方法 [P].

M·A·范德科克霍夫 .

中国专利 :CN101055430B ,2007-10-17

[3]

位置测量系统和光刻设备 [P].

R·A·琼斯 ;

E·A·J·M·本特 .

:CN120112768A ,2025-06-06

[4]

位置测量系统和光刻设备 [P].

汉斯·布特勒 ;

恩格尔伯塔斯·安东尼斯·弗朗西斯克斯·范德帕什 .

中国专利 :CN101424513B ,2009-05-06

[5]

干涉仪系统和光刻设备 [P].

C·利德克 ;

M·K·M·巴格根 ;

M·J·詹森 ;

M·K·姆里达 .

中国专利 :CN115135955A ,2022-09-30

[6]

位置测量方法、位置测量系统以及光刻设备 [P].

吴萍 ;

付强 .

中国专利 :CN117537704A ,2024-02-09

[7]

干涉仪和采用干涉仪的测量方法 [P].

鸣海达也 .

中国专利 :CN1206511C ,2000-05-24

[8]

位置测量系统、定位系统、光刻设备和器件制造方法 [P].

M·A·范德克尔克豪夫 .

:CN117546096A ,2024-02-09

[9]

光刻设备和校准光刻设备的位置测量系统的方法 [P].

汤姆·范祖特芬 .

:CN120615179A ,2025-09-09

[10]

位置测量系统、光刻设备以及器件制造方法 [P].

W·H·G·A·考恩 ;

E·J·M·尤森 ;

E·A·F·范德帕斯奇 ;

R·E·范莱文 ;

A·H·考沃埃特斯 .

中国专利 :CN102954761B ,2013-03-06

← 1 2 3 4 5 →