变倍光学系统以及光学设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680016761.3

申请日：

2016-01-29

公开(公告)号：

CN107430262B

公开(公告)日：

2017-12-01

发明(设计)人：

原田壮基

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B1520

IPC分类号：

G02B1318 G03B500

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

高培培;戚传江

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-04-14	授权	授权
2017-12-01	公开	公开
2017-12-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 15/20 申请日:20160129

共 50 条

[1]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

大竹史哲 .

日本专利 :CN114868067B ,2024-03-22

[2]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

籔本洋 .

日本专利 :CN118483813A ,2024-08-13

[3]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

大竹史哲 ;

野中杏菜 .

中国专利 :CN113302533B ,2021-08-24

[4]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN113056694B ,2021-06-29

[5]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

山本浩史 .

日本专利 :CN114286959B ,2024-02-13

[6]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

梅田武 ;

伊藤智希 ;

芝山敦史 .

中国专利 :CN109804292B ,2019-05-24

[7]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN113589500A ,2021-11-02

[8]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

大竹史哲 ;

野中杏菜 ;

汤浅吉晴 ;

梅田武 .

日本专利 :CN114787682B ,2024-01-02

[9]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

町田幸介 .

日本专利 :CN114008508B ,2024-09-27

[10]

变倍光学系统以及光学设备 [P].

籔本洋 .

日本专利 :CN114341697B ,2024-06-11

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