抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810275797.4

申请日：

2018-03-30

公开(公告)号：

CN108693713B

公开(公告)日：

2018-10-23

发明(设计)人：

佐藤裕典长井洋子渡边武郡大佑荻原勤

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人：

张晶;谢顺星

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-11-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/11 申请日:20180330
2018-10-23	公开	公开
2022-06-03	授权	授权

共 50 条

[1]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

长井洋子 ;

渡边武 ;

郡大佑 ;

荻原勤 .

中国专利 :CN108693705B ,2018-10-23

[2]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、抗蚀剂下层膜形成方法、及抗蚀剂下层膜材料用化合物 [P].

渡边武 ;

菊地里枝 ;

郡大佑 ;

美谷岛祐介 ;

荻原勤 .

中国专利 :CN107589633A ,2018-01-16

[3]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

中原贵佳 ;

渡边武 ;

郡大佑 ;

美谷岛祐介 ;

荻原勤 .

日本专利 :CN113805434B ,2024-04-23

[4]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

郡大佑 ;

中原贵佳 ;

美谷岛祐介 ;

原田裕次 .

中国专利 :CN114545733A ,2022-05-27

[5]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

中原贵佳 ;

渡边武 ;

郡大佑 ;

美谷岛祐介 ;

荻原勤 .

中国专利 :CN113805434A ,2021-12-17

[6]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

郡大佑 ;

中原贵佳 ;

美谷岛祐介 ;

原田裕次 .

日本专利 :CN114545733B ,2024-11-22

[7]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

中原贵佳 ;

郡大佑 ;

美谷岛祐介 .

日本专利 :CN118584753A ,2024-09-03

[8]

抗蚀剂下层膜形成用组成物、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

小林直贵 ;

石绵健汰 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN118330991A ,2024-07-12

[9]

抗蚀剂下层膜形成用组成物、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

石绵健汰 ;

郡大佑 ;

矢野俊治 ;

小林直贵 ;

新井田惠介 .

日本专利 :CN119270583A ,2025-01-07

[10]

抗蚀剂下层膜形成方法、图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

石绵健汰 ;

郡大佑 ;

矢野俊治 .

日本专利 :CN119493337A ,2025-02-21

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