抗蚀剂下层膜形成用组成物、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410876412.5

申请日：

2024-07-02

公开(公告)号：

CN119270583A

公开(公告)日：

2025-01-07

发明(设计)人：

石绵健汰郡大佑矢野俊治小林直贵新井田惠介

申请人：

信越化学工业株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/09 G03F7/11 H01L21/027

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-24	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20240702
2025-01-07	公开	公开

共 50 条

[1]

抗蚀剂下层膜形成用组成物、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

小林直贵 ;

石绵健汰 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN118330991A ,2024-07-12

[2]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

中原贵佳 ;

郡大佑 ;

美谷岛祐介 .

日本专利 :CN118584753A ,2024-09-03

[3]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

长井洋子 ;

渡边武 ;

郡大佑 ;

荻原勤 .

中国专利 :CN108693705B ,2018-10-23

[4]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

中原贵佳 ;

渡边武 ;

郡大佑 ;

美谷岛祐介 ;

荻原勤 .

日本专利 :CN113805434B ,2024-04-23

[5]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

郡大佑 ;

中原贵佳 ;

美谷岛祐介 ;

原田裕次 .

中国专利 :CN114545733A ,2022-05-27

[6]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

中原贵佳 ;

渡边武 ;

郡大佑 ;

美谷岛祐介 ;

荻原勤 .

中国专利 :CN113805434A ,2021-12-17

[7]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

郡大佑 ;

中原贵佳 ;

美谷岛祐介 ;

原田裕次 .

日本专利 :CN114545733B ,2024-11-22

[8]

抗蚀剂下层膜形成用组成物及图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

岩森颂平 ;

郡大佑 ;

佐藤裕典 .

日本专利 :CN119087741A ,2024-12-06

[9]

抗蚀剂下层膜形成方法、图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

石绵健汰 ;

郡大佑 ;

矢野俊治 .

日本专利 :CN119493337A ,2025-02-21

[10]

抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

佐藤裕典 ;

长井洋子 ;

渡边武 ;

郡大佑 ;

荻原勤 .

中国专利 :CN108693713B ,2018-10-23

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