用于抛光基材的湿法铈土组合物、及其相关方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480067700.0

申请日：

2014-09-30

公开(公告)号：

CN105829488A

公开(公告)日：

2016-08-03

发明(设计)人：

B.赖斯 J.戴萨德 S.谢卡尔

申请人：

申请人地址：

美国伊利诺伊州

IPC主分类号：

C09K314

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

宋莉;邢岳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-08-31	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101676755941 专利申请号:2014800677000 申请日:20140930 IPC(主分类):C09K 3/14
2021-08-24	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C09K 3/14 变更事项:专利权人变更前:嘉柏微电子材料股份公司变更后:CMC材料股份有限公司变更事项:地址变更前:美国伊利诺伊州变更后:美国伊利诺伊州
2016-08-03	公开	公开
2018-02-16	授权	授权

共 50 条

[1]

用于选择性地抛光基材的湿法铈土组合物、以及与其相关的方法 [P].

B.赖斯 .

中国专利 :CN105829487B ,2016-08-03

[2]

包含铈土研磨剂的抛光组合物 [P].

B.赖斯 ;

D.索特范内斯 ;

林越 ;

A.海恩斯 ;

S.克拉夫特 ;

贾仁合 .

中国专利 :CN107427988A ,2017-12-01

[3]

用于抛光铝半导体基材的组合物及方法 [P].

崔骥 ;

S.格拉宾 ;

G.怀特纳 ;

林致安 .

中国专利 :CN103946958B ,2014-07-23

[4]

用于抛光含硅基材的方法和组合物 [P].

弗朗西斯科.德雷吉塞索罗 ;

陈湛 .

中国专利 :CN102149783A ,2011-08-10

[5]

含有铈土颗粒的抛光组合物及使用方法 [P].

B.赖斯 ;

林越 ;

贾仁合 .

中国专利 :CN107429121B ,2017-12-01

[6]

基于铈土的玻璃抛光组合物及其制备方法 [P].

K·谢曼茨 ;

J·肖恩费尔德 .

中国专利 :CN101268016A ,2008-09-17

[7]

抛光组合物及其使用方法 [P].

A·P·列昂诺夫 ;

A·米什拉 .

中国专利 :CN110461970B ,2019-11-15

[8]

抛光组合物及其使用方法 [P].

A·P·列昂诺夫 ;

A·米什拉 .

美国专利 :CN114456717B ,2025-05-30

[9]

抛光组合物及其使用方法 [P].

A·P·列昂诺夫 ;

A·米什拉 .

中国专利 :CN114456717A ,2022-05-10

[10]

用于玻璃基材的双添加剂抛光组合物 [P].

李同 .

美国专利 :CN119110834A ,2024-12-10

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