一种纳米级图形化衬底及其制作方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711011477.X

申请日：

2017-10-26

公开(公告)号：

CN107863428A

公开(公告)日：

2018-03-30

发明(设计)人：

王晓东段瑞飞王军喜曾一平付强

申请人：

申请人地址：

100176 北京市经济技术开发区经海五路58号院5号楼7层708室

IPC主分类号：

H01L3320

IPC分类号：

H01L3300

代理机构：

北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390

代理人：

胡剑辉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-04-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 33/20 申请日:20171026
2018-03-30	公开	公开
2019-03-01	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L 33/20 登记生效日:20190212 变更事项:申请人变更前权利人:北京中科优唯科技有限公司变更后权利人:山西中科潞安紫外光电科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:100176 北京市经济技术开发区经海五路58号院5号楼7层708室变更后权利人:046000 山西省长治市长治高新区漳泽新型工业园区

共 50 条

[1]

一种图形化衬底及其制作方法 [P].

王瑜 ;

董金矿 ;

丁祥 ;

陈志豪 ;

周宏敏 ;

李政鸿 ;

林兓兓 .

中国专利 :CN115642213A ,2023-01-24

[2]

一种纳米图形化衬底及其制作方法 [P].

徐广源 ;

崔志强 ;

贾晓龙 ;

孟锡俊 ;

蒋国文 .

中国专利 :CN112687778A ,2021-04-20

[3]

图形化蓝宝石衬底及其制作方法、外延片的制作方法 [P].

桂宇畅 ;

张建宝 .

中国专利 :CN103887390A ,2014-06-25

[4]

一种纳米级图形化衬底的制造方法 [P].

毕少强 .

中国专利 :CN102983235B ,2013-03-20

[5]

一种纳米级图形化衬底的制造方法 [P].

毕少强 .

中国专利 :CN103066170A ,2013-04-24

[6]

一种纳米级图形化衬底的制造方法 [P].

毕少强 .

中国专利 :CN103035788A ,2013-04-10

[7]

一种纳米级图形化衬底的制造方法 [P].

毕少强 .

中国专利 :CN102945900B ,2013-02-27

[8]

一种纳米级图形化衬底的制造方法 [P].

毕少强 .

中国专利 :CN103022281B ,2013-04-03

[9]

图形化衬底及其制备方法、外延片制作方法及外延片 [P].

桂宇畅 ;

张建宝 .

中国专利 :CN104332541A ,2015-02-04

[10]

图形化衬底及其制备方法、外延片制作方法及外延片 [P].

桂宇畅 ;

张建宝 .

中国专利 :CN104319329A ,2015-01-28

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