半导体器件及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201010286825.6
申请日
2005-10-12
公开(公告)号
CN101982884A
公开(公告)日
2011-03-02
发明(设计)人
姜泰旭
申请人
申请人地址
韩国京畿道
IPC主分类号
H01L2732
IPC分类号
H01L5156 H01L2177
代理机构
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204
代理人
余朦;王艳春
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
姜泰旭 .
中国专利 :CN1794452B ,2006-06-28
[2]
半导体器件的制造方法及半导体器件 [P]. 
冈崎勉 ;
冈田大介 ;
池田良广 ;
塚本惠介 ;
福村达也 ;
宿利章二 ;
原田惠一 ;
岸浩二 .
中国专利 :CN1622311A ,2005-06-01
[3]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
王文生 .
中国专利 :CN101253620B ,2008-08-27
[4]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
入泽寿史 ;
沼田敏典 .
中国专利 :CN1819269A ,2006-08-16
[5]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
中村亘 .
中国专利 :CN101253621A ,2008-08-27
[6]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
舛冈富士雄 ;
中村广记 .
中国专利 :CN101996997B ,2011-03-30
[7]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
山口直 .
日本专利 :CN118804677A ,2024-10-18
[8]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
山田敬 ;
梶山健 .
中国专利 :CN1357924A ,2002-07-10
[9]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
赵冬雪 ;
杨远程 ;
杨涛 ;
孙昌志 ;
刘威 ;
夏志良 ;
霍宗亮 .
中国专利 :CN119999351A ,2025-05-13
[10]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
小野升太郎 ;
斋藤涉 ;
薮崎宗久 ;
谷内俊治 ;
渡边美穗 .
中国专利 :CN102194883A ,2011-09-21