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半导体器件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380011348.8
申请日
:
2023-09-12
公开(公告)号
:
CN119999351A
公开(公告)日
:
2025-05-13
发明(设计)人
:
赵冬雪
杨远程
杨涛
孙昌志
刘威
夏志良
霍宗亮
申请人
:
长江存储科技有限责任公司
申请人地址
:
430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
IPC主分类号
:
H10B12/00
IPC分类号
:
H10D30/63
代理机构
:
北京永新同创知识产权代理有限公司 11376
代理人
:
刘景峰;林锦辉
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
河北省 石家庄市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-05-30
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H10B 12/00申请日:20230912
2025-05-13
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法
[P].
姜泰旭
论文数:
0
引用数:
0
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0
姜泰旭
;
郑仓龙
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郑仓龙
;
金昌树
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金昌树
;
徐昌秀
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徐昌秀
;
朴汶熙
论文数:
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朴汶熙
.
中国专利
:CN1725511A
,2006-01-25
[2]
半导体器件及其制造方法
[P].
朱慧珑
论文数:
0
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0
朱慧珑
.
中国专利
:CN102034865A
,2011-04-27
[3]
半导体器件及其制造方法
[P].
三重野文健
论文数:
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三重野文健
.
中国专利
:CN102891178A
,2013-01-23
[4]
半导体器件及其制造方法
[P].
张哲诚
论文数:
0
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张哲诚
;
林志翰
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林志翰
.
中国专利
:CN105845578A
,2016-08-10
[5]
半导体器件及其制造方法
[P].
张青淳
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张青淳
.
中国专利
:CN108346577B
,2018-07-31
[6]
半导体器件及其制造方法
[P].
入泽寿史
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入泽寿史
;
沼田敏典
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沼田敏典
;
高木信一
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高木信一
;
杉山直治
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杉山直治
.
中国专利
:CN100517759C
,2007-08-22
[7]
半导体器件及其制造方法
[P].
三重野文健
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三重野文健
.
中国专利
:CN102891177A
,2013-01-23
[8]
半导体器件及其制造方法
[P].
福井永贵
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福井永贵
;
加藤浩朗
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加藤浩朗
.
中国专利
:CN102820326B
,2012-12-12
[9]
半导体器件及其制造方法
[P].
黄禹轩
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
黄禹轩
;
陈豪育
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈豪育
;
锺政庭
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
锺政庭
;
蔡劲
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡劲
.
中国专利
:CN117894681A
,2024-04-16
[10]
半导体器件及其制造方法
[P].
姜泰旭
论文数:
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0
姜泰旭
.
中国专利
:CN101982884A
,2011-03-02
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