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薄膜电阻结构及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200810099311.2
申请日
:
2008-05-09
公开(公告)号
:
CN101577159A
公开(公告)日
:
2009-11-11
发明(设计)人
:
陈友忠
李鸿坤
翁荣洲
申请人
:
申请人地址
:
台湾省新竹县
IPC主分类号
:
H01C700
IPC分类号
:
H01C1706
H05K116
H05K330
H05K346
代理机构
:
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人
:
陈 红
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2010-01-06
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-11-11
公开
公开
2011-04-13
授权
授权
共 50 条
[1]
薄膜电阻结构及其制造方法
[P].
陈友忠
论文数:
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引用数:
0
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陈友忠
;
李鸿坤
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李鸿坤
;
翁荣洲
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翁荣洲
.
中国专利
:CN101399101B
,2009-04-01
[2]
薄膜电阻材料、薄膜电阻及其制备方法
[P].
付治屯
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付治屯
;
刘德波
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刘德波
;
彭勤卫
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彭勤卫
.
中国专利
:CN104711455A
,2015-06-17
[3]
薄膜电阻及其制造方法
[P].
萧胜利
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机构:
国巨股份有限公司
国巨股份有限公司
萧胜利
;
施伯勋
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机构:
国巨股份有限公司
国巨股份有限公司
施伯勋
;
林广成
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机构:
国巨股份有限公司
国巨股份有限公司
林广成
.
中国专利
:CN120511128A
,2025-08-19
[4]
薄膜电阻及其制造方法
[P].
萧胜利
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机构:
国巨股份有限公司
国巨股份有限公司
萧胜利
;
施伯勋
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机构:
国巨股份有限公司
国巨股份有限公司
施伯勋
;
林广成
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机构:
国巨股份有限公司
国巨股份有限公司
林广成
.
中国专利
:CN120452962A
,2025-08-08
[5]
薄膜电阻元件及其制造方法
[P].
佐藤清
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佐藤清
.
中国专利
:CN1216385C
,2003-01-22
[6]
薄膜电阻元件及其制造方法
[P].
温文莹
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温文莹
;
赵基宏
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赵基宏
;
蔡政原
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蔡政原
.
中国专利
:CN107895758A
,2018-04-10
[7]
薄膜电阻元件及其制造方法
[P].
陈仲渝
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陈仲渝
;
卢契佑
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卢契佑
.
中国专利
:CN112992447A
,2021-06-18
[8]
电阻元件及其制造方法
[P].
王钟雄
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王钟雄
;
生田英雄
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生田英雄
;
朱武良
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朱武良
;
林彦霆
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林彦霆
;
郭至圣
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郭至圣
;
廖玟雄
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廖玟雄
.
中国专利
:CN101673602B
,2010-03-17
[9]
金属电阻材料、溅射靶材、电阻薄膜及其制造方法
[P].
大迫敏行
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大迫敏行
;
佐藤岩
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佐藤岩
;
森本敏夫
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森本敏夫
.
中国专利
:CN1614059A
,2005-05-11
[10]
薄膜电阻温度传感器及其制造方法
[P].
董述恂
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董述恂
;
龙峰洲
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龙峰洲
.
中国专利
:CN1184462C
,2003-07-30
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