一种在钇掺杂氧化锆衬底上制备立方结构氧化铟单晶薄膜的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010141341.2
申请日
2010-04-08
公开(公告)号
CN101792901A
公开(公告)日
2010-08-04
发明(设计)人
马瑾 孔令沂 栾彩娜
申请人
申请人地址
250100 山东省济南市历城区山大南路27号
IPC主分类号
C23C1640
IPC分类号
C23C16455
代理机构
济南金迪知识产权代理有限公司 37219
代理人
许德山
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种氧化铟单晶外延薄膜的制备方法 [P]. 
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[2]
一种钇掺杂氧化锆单晶衬底的处理方法 [P]. 
姚岐 ;
沈大伟 ;
刘吉山 ;
李明颖 ;
刘正太 .
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[3]
一种在氧化镁衬底上制备单斜晶型氧化镓单晶薄膜的方法 [P]. 
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栾彩娜 .
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[4]
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王玥莹 ;
刘鑫 ;
刘星宇 ;
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[5]
一种纳米钇掺杂氧化锆粉的制备方法 [P]. 
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[6]
一种钇掺杂氧化锆粉体及其制备方法 [P]. 
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李敏杰 ;
吴梦飞 ;
曹玉超 ;
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[7]
从掺钇立方相氧化锆粉末中制备氧化锆及氧化钇的方法 [P]. 
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[8]
钇稳定氧化锆浆料、其制备方法及钇稳定氧化锆薄膜的制备方法 [P]. 
周超 ;
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[9]
一种制备钇掺杂的氧化锆空心颗粒的方法 [P]. 
袁方利 ;
金化成 ;
丁飞 ;
李保强 .
中国专利 :CN117534462B ,2025-05-02
[10]
一种制备钇掺杂的氧化锆空心颗粒的方法 [P]. 
袁方利 ;
金化成 ;
丁飞 ;
李保强 .
中国专利 :CN117534462A ,2024-02-09