一种无掩模纳米图形制作方法及其制作装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN02153955.3
申请日
2002-12-09
公开(公告)号
CN1506761A
公开(公告)日
2004-06-23
发明(设计)人
陈献忠 姚汉民 陈旭南 石建平 李展 高洪涛 陈元培
申请人
申请人地址
610209四川省成都市双流350信箱
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
G03F730 H01L21027
代理机构
北京科迪生专利代理有限责任公司
代理人
刘秀娟
法律状态
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
国省代码
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共 50 条
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