防反射膜、光学元件及光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880059995.5

申请日：

2018-08-17

公开(公告)号：

CN111095037A

公开(公告)日：

2020-05-01

发明(设计)人：

中村诚吾吉弘达矢梅田贤一板井雄一郎

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

G02B1115

IPC分类号：

G02B1520 B32B702 B32B900 B32B1504 G02B1111

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

蒋亭

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/115 申请日:20180817
2021-07-30	授权	授权
2020-05-01	公开	公开

共 50 条

[1]

防反射膜、光学元件以及光学系统 [P].

园田慎一郎 ;

安田英纪 ;

大津晓彦 .

中国专利 :CN107615101A ,2018-01-19

[2]

反射防止膜、光学元件及光学系统 [P].

寺山悦夫 .

中国专利 :CN101271166A ,2008-09-24

[3]

防反射膜、及具有该防反射膜的光学元件和光学系统 [P].

田中一政 ;

村田刚 .

中国专利 :CN1677132A ,2005-10-05

[4]

防反射膜、光学系统、光学设备以及防反射膜的成膜方法 [P].

小山匡考 ;

细川一幸 .

中国专利 :CN104040380B ,2014-09-10

[5]

光学薄膜、光学元件及光学系统 [P].

梅田贤一 ;

中村诚吾 ;

吉弘达矢 ;

板井雄一郎 .

中国专利 :CN111656226A ,2020-09-11

[6]

减反射膜、光学构件、光学系统 [P].

寺山悦夫 .

中国专利 :CN101587197A ,2009-11-25

[7]

防反射膜和光学元件 [P].

涩谷穣 ;

山下直城 .

中国专利 :CN103185905A ,2013-07-03

[8]

防反射膜以及光学元件 [P].

涩谷穣 ;

国定照房 ;

山下直城 .

中国专利 :CN102736138B ,2012-10-17

[9]

反射式光学元件和EUV光刻的光学系统 [P].

C.诺特伯姆 .

中国专利 :CN108496116B ,2018-09-04

[10]

防反射膜及光学元件 [P].

川岸秀一朗 ;

山下照夫 .

中国专利 :CN103091734A ,2013-05-08

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