反射式光学元件和EUV光刻的光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780007834.7

申请日：

2017-01-16

公开(公告)号：

CN108496116B

公开(公告)日：

2018-09-04

发明(设计)人：

C.诺特伯姆

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F124 G21K106

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20170116
2018-09-04	公开	公开
2020-09-29	授权	授权

共 50 条

[1]

防反射膜、光学元件以及光学系统 [P].

园田慎一郎 ;

安田英纪 ;

大津晓彦 .

中国专利 :CN107615101A ,2018-01-19

[2]

防反射膜、光学元件及光学系统 [P].

中村诚吾 ;

吉弘达矢 ;

梅田贤一 ;

板井雄一郎 .

中国专利 :CN111095037A ,2020-05-01

[3]

反射防止膜、光学元件及光学系统 [P].

寺山悦夫 .

中国专利 :CN101271166A ,2008-09-24

[4]

反射光学元件和用于极紫外光刻的光学系统 [P].

D.H.埃姆 ;

P.休伯 ;

S.米兰德 ;

G.冯布兰肯哈根 .

中国专利 :CN103547945B ,2014-01-29

[5]

制造用于EUV光刻的反射光学元件的方法 [P].

A.库兹尼佐夫 ;

M.格里森 ;

R.W.E.范德克鲁杰斯 ;

F.比杰科克 .

中国专利 :CN103635974A ,2014-03-12

[6]

EUV反射镜和包括EUV反射镜的光学系统 [P].

T.希克坦兹 ;

H-J.保罗 ;

C.扎克齐克 .

中国专利 :CN104919537B ,2015-09-16

[7]

减反射膜、光学构件、光学系统 [P].

寺山悦夫 .

中国专利 :CN101587197A ,2009-11-25

[8]

折反射式光学系统 [P].

付强 ;

张新 ;

王灵杰 ;

史广维 ;

刘洋 .

中国专利 :CN114415358A ,2022-04-29

[9]

透明反射式光学系统 [P].

徐岩修 ;

何箐 .

中国专利 :CN222634388U ,2025-03-18

[10]

极紫外光刻的光学元件和光学系统及处理这种光学元件的方法 [P].

H.H.P.T.贝克曼 ;

D.H.埃姆 ;

J.休布雷格特斯 ;

A.J.斯托姆 ;

T.格雷伯 ;

I.阿门特 ;

D.斯米茨 ;

E.特斯莱特 ;

A.库兹尼特索夫 .

中国专利 :CN105074576A ,2015-11-18

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