EUV反射镜和包括EUV反射镜的光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380070253.X

申请日：

2013-12-06

公开(公告)号：

CN104919537B

公开(公告)日：

2015-09-16

发明(设计)人：

T.希克坦兹 H-J.保罗 C.扎克齐克

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G21K106

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-05	授权	授权
2015-09-16	公开	公开
2016-02-17	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101646686535 IPC(主分类):G21K 1/06 专利申请号:201380070253X 申请日:20131206

共 50 条

[1]

EUV反射镜布置、包括EUV反射镜布置的光学系统以及操作包括EUV反射镜布置的光学系统的方法 [P].

U.丁格 ;

F.比杰科克 ;

M.拜拉克塔 ;

O.迪尔 .

中国专利 :CN103443863B ,2013-12-11

[2]

光刻曝光设备的反射镜布置和包括反射镜布置的光学系统 [P].

W.B.J.哈克福特 ;

R.P.霍杰沃尔斯特 ;

P.T.罗格斯 ;

K.希尔德 ;

T.格鲁纳 .

中国专利 :CN107851473A ,2018-03-27

[3]

反射镜组、生长反射镜组的方法、光学器件和光学系统 [P].

李志超 ;

廖传武 ;

侯炳泽 ;

贺亮 .

中国专利 :CN112230315B ,2021-01-15

[4]

反射镜组、光学器件和光学系统 [P].

李志超 ;

廖传武 ;

侯炳泽 ;

贺亮 .

中国专利 :CN112987153B ,2021-06-18

[5]

用于EUV的多层反射镜、其波前光行差校正法及包含它的EUV光学系统 [P].

白石雅之 ;

村上胜彦 ;

近藤洋行 ;

神高典明 .

中国专利 :CN1350185A ,2002-05-22

[6]

介质反射镜 [P].

G·华安泰 .

中国专利 :CN106068467A ,2016-11-02

[7]

高反射镜 [P].

井奈绪子 ;

尾山卓司 ;

门胁一生 .

中国专利 :CN1576902A ,2005-02-09

[8]

反射镜座、光学系统和投射曝光设备 [P].

R·奥尔利克 ;

D·佩茨 ;

A·加拉提杜 ;

J·克鲁伊斯 ;

M·纳夫兹 ;

K·里弗 .

德国专利 :CN120283187A ,2025-07-08

[9]

反射镜及其制作方法、光学系统 [P].

舒国阳 ;

朱海 ;

赵冉 ;

徐文伟 .

中国专利 :CN120103532A ,2025-06-06

[10]

反射式光学元件和EUV光刻的光学系统 [P].

C.诺特伯姆 .

中国专利 :CN108496116B ,2018-09-04

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