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EUV反射镜布置、包括EUV反射镜布置的光学系统以及操作包括EUV反射镜布置的光学系统的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201280015247.X
申请日
:
2012-03-21
公开(公告)号
:
CN103443863B
公开(公告)日
:
2013-12-11
发明(设计)人
:
U.丁格
F.比杰科克
M.拜拉克塔
O.迪尔
申请人
:
申请人地址
:
德国上科亨
IPC主分类号
:
G21K106
IPC分类号
:
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
邱军
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-04-16
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101581573089 IPC(主分类):G21K 1/06 专利申请号:201280015247X 申请日:20120321
2013-12-11
公开
公开
2017-03-08
授权
授权
共 50 条
[1]
EUV反射镜和包括EUV反射镜的光学系统
[P].
T.希克坦兹
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T.希克坦兹
;
H-J.保罗
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H-J.保罗
;
C.扎克齐克
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C.扎克齐克
.
中国专利
:CN104919537B
,2015-09-16
[2]
光刻曝光设备的反射镜布置和包括反射镜布置的光学系统
[P].
W.B.J.哈克福特
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W.B.J.哈克福特
;
R.P.霍杰沃尔斯特
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R.P.霍杰沃尔斯特
;
P.T.罗格斯
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P.T.罗格斯
;
K.希尔德
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K.希尔德
;
T.格鲁纳
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T.格鲁纳
.
中国专利
:CN107851473A
,2018-03-27
[3]
反射镜组、生长反射镜组的方法、光学器件和光学系统
[P].
李志超
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李志超
;
廖传武
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廖传武
;
侯炳泽
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侯炳泽
;
贺亮
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贺亮
.
中国专利
:CN112230315B
,2021-01-15
[4]
反射镜组、光学器件和光学系统
[P].
李志超
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李志超
;
廖传武
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廖传武
;
侯炳泽
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侯炳泽
;
贺亮
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贺亮
.
中国专利
:CN112987153B
,2021-06-18
[5]
反射镜及其制作方法、光学系统
[P].
舒国阳
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
舒国阳
;
朱海
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
朱海
;
赵冉
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
赵冉
;
徐文伟
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
徐文伟
.
中国专利
:CN120103532A
,2025-06-06
[6]
用于EUV的多层反射镜、其波前光行差校正法及包含它的EUV光学系统
[P].
白石雅之
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白石雅之
;
村上胜彦
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村上胜彦
;
近藤洋行
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近藤洋行
;
神高典明
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神高典明
.
中国专利
:CN1350185A
,2002-05-22
[7]
用于确定光学系统中的反射镜的发热状况的方法和布置
[P].
P.沃格特
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P.沃格特
;
M.赫尔曼
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M.赫尔曼
;
O.迪尔
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O.迪尔
;
A.G.马乔
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A.G.马乔
.
中国专利
:CN103250101A
,2013-08-14
[8]
改进的反射镜光学系统
[P].
理查德·雅克·特奥多尔·弗里森
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理查德·雅克·特奥多尔·弗里森
.
中国专利
:CN101688027A
,2010-03-31
[9]
反射镜座、光学系统和投射曝光设备
[P].
R·奥尔利克
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卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
R·奥尔利克
;
D·佩茨
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机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
D·佩茨
;
A·加拉提杜
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卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
A·加拉提杜
;
J·克鲁伊斯
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机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
J·克鲁伊斯
;
M·纳夫兹
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卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
M·纳夫兹
;
K·里弗
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机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
K·里弗
.
德国专利
:CN120283187A
,2025-07-08
[10]
反射镜调整结构及投影光学系统
[P].
杜健
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杜健
;
孙阳
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孙阳
;
杨思文
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杨思文
;
孔维成
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孔维成
;
付瑶
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付瑶
;
陈易
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陈易
.
中国专利
:CN105487197A
,2016-04-13
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