聚酰亚胺膜、覆金属层叠板及电路基板

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202011021751.3
申请日
2020-09-25
公开(公告)号
CN112571901A
公开(公告)日
2021-03-30
发明(设计)人
安藤智典 須藤芳树
申请人
申请人地址
日本东京中央区日本桥一丁目13番1号(邮编:103-0027)
IPC主分类号
B32B2706
IPC分类号
B32B2728 H05K103
代理机构
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
马爽;臧建明
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
聚酰亚胺膜、覆金属层叠板及电路基板 [P]. 
安藤智典 ;
須藤芳树 .
日本专利 :CN112571901B ,2024-12-31
[2]
聚酰亚胺膜、覆金属层叠板及电路基板 [P]. 
橘髙直树 ;
菊池伊织 ;
西山哲平 ;
平石克文 ;
安藤敏男 ;
樱井慎一郎 .
中国专利 :CN109575283B ,2019-04-05
[3]
聚酰亚胺膜、覆金属层叠板、覆金属层叠板的制造方法及电路基板 [P]. 
安达康弘 ;
安藤智典 .
中国专利 :CN114672048A ,2022-06-28
[4]
聚酰亚胺膜、铜张层叠板及电路基板 [P]. 
安藤智典 ;
西山哲平 ;
须藤芳树 ;
森亮 .
中国专利 :CN114716707A ,2022-07-08
[5]
聚酰亚胺膜、铜张层叠板及电路基板 [P]. 
安藤智典 ;
西山哲平 ;
须藤芳树 ;
森亮 .
日本专利 :CN114716707B ,2024-10-11
[6]
聚酰亚胺膜、铜张层叠板及电路基板 [P]. 
安藤智典 ;
西山哲平 ;
须藤芳树 ;
森亮 .
中国专利 :CN109789689A ,2019-05-21
[7]
聚酰亚胺膜、覆金属层叠板及柔性电路基板 [P]. 
向井大挥 ;
松井弘贵 ;
庄司直幸 .
中国专利 :CN112153807A ,2020-12-29
[8]
聚酰胺酸、聚酰亚胺、聚酰亚胺膜、金属包覆层叠板及电路基板 [P]. 
安藤智典 .
中国专利 :CN115536844A ,2022-12-30
[9]
聚酰亚胺膜及覆铜层叠板 [P]. 
松下祐之 ;
金子和明 ;
须藤芳树 .
日本专利 :CN113527882B ,2024-10-18
[10]
聚酰亚胺膜及覆铜层叠板 [P]. 
松下祐之 ;
金子和明 ;
须藤芳树 .
中国专利 :CN113527882A ,2021-10-22