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聚酰亚胺膜、覆金属层叠板及电路基板
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011021751.3
申请日
:
2020-09-25
公开(公告)号
:
CN112571901A
公开(公告)日
:
2021-03-30
发明(设计)人
:
安藤智典
須藤芳树
申请人
:
申请人地址
:
日本东京中央区日本桥一丁目13番1号(邮编:103-0027)
IPC主分类号
:
B32B2706
IPC分类号
:
B32B2728
H05K103
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
马爽;臧建明
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-04-01
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):B32B 27/06 申请日:20200925
2021-03-30
公开
公开
共 50 条
[1]
聚酰亚胺膜、覆金属层叠板及电路基板
[P].
安藤智典
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日铁化学材料株式会社
日铁化学材料株式会社
安藤智典
;
須藤芳树
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机构:
日铁化学材料株式会社
日铁化学材料株式会社
須藤芳树
.
日本专利
:CN112571901B
,2024-12-31
[2]
聚酰亚胺膜、覆金属层叠板及电路基板
[P].
橘髙直树
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橘髙直树
;
菊池伊织
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菊池伊织
;
西山哲平
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西山哲平
;
平石克文
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平石克文
;
安藤敏男
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安藤敏男
;
樱井慎一郎
论文数:
0
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樱井慎一郎
.
中国专利
:CN109575283B
,2019-04-05
[3]
聚酰亚胺膜、覆金属层叠板、覆金属层叠板的制造方法及电路基板
[P].
安达康弘
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安达康弘
;
安藤智典
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0
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安藤智典
.
中国专利
:CN114672048A
,2022-06-28
[4]
聚酰亚胺膜、铜张层叠板及电路基板
[P].
安藤智典
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安藤智典
;
西山哲平
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西山哲平
;
须藤芳树
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须藤芳树
;
森亮
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森亮
.
中国专利
:CN114716707A
,2022-07-08
[5]
聚酰亚胺膜、铜张层叠板及电路基板
[P].
安藤智典
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机构:
日铁化学材料株式会社
日铁化学材料株式会社
安藤智典
;
西山哲平
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机构:
日铁化学材料株式会社
日铁化学材料株式会社
西山哲平
;
须藤芳树
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机构:
日铁化学材料株式会社
日铁化学材料株式会社
须藤芳树
;
森亮
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机构:
日铁化学材料株式会社
日铁化学材料株式会社
森亮
.
日本专利
:CN114716707B
,2024-10-11
[6]
聚酰亚胺膜、铜张层叠板及电路基板
[P].
安藤智典
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安藤智典
;
西山哲平
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西山哲平
;
须藤芳树
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须藤芳树
;
森亮
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森亮
.
中国专利
:CN109789689A
,2019-05-21
[7]
聚酰亚胺膜、覆金属层叠板及柔性电路基板
[P].
向井大挥
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向井大挥
;
松井弘贵
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松井弘贵
;
庄司直幸
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0
庄司直幸
.
中国专利
:CN112153807A
,2020-12-29
[8]
聚酰胺酸、聚酰亚胺、聚酰亚胺膜、金属包覆层叠板及电路基板
[P].
安藤智典
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安藤智典
.
中国专利
:CN115536844A
,2022-12-30
[9]
聚酰亚胺膜及覆铜层叠板
[P].
松下祐之
论文数:
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0
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机构:
日铁化学材料株式会社
日铁化学材料株式会社
松下祐之
;
金子和明
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机构:
日铁化学材料株式会社
日铁化学材料株式会社
金子和明
;
须藤芳树
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机构:
日铁化学材料株式会社
日铁化学材料株式会社
须藤芳树
.
日本专利
:CN113527882B
,2024-10-18
[10]
聚酰亚胺膜及覆铜层叠板
[P].
松下祐之
论文数:
0
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松下祐之
;
金子和明
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金子和明
;
须藤芳树
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0
须藤芳树
.
中国专利
:CN113527882A
,2021-10-22
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