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基于高度传感器的X光屏蔽装置及X光检查装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202020347258.X
申请日：
2020-03-18
公开(公告)号：
CN212788527U
公开(公告)日：
2021-03-26
发明(设计)人：
方明
申请人：
申请人地址：
310051 浙江省杭州市滨江区滨康路677号1幢三层、6幢一层、1号厂房、2号厂房A区
IPC主分类号：
A61B610
IPC分类号：
A61B600
代理机构：
杭州裕阳联合专利代理有限公司 33289
代理人：
田金霞
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-03-26 | 授权 | 授权 |