无氧铜微结构功能表面射流抛光液及抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111203121.2

申请日：

2021-10-15

公开(公告)号：

CN113956797A

公开(公告)日：

2022-01-21

发明(设计)人：

潘国顺艾天成张馨张文静郭丹

申请人：

申请人地址：

100084 北京市海淀区清华园

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

C23F304

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

代理人：

尚伟净

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-02-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20211015
2022-01-21	公开	公开

共 50 条

[1]

抛光液及应用该抛光液对CdS晶片抛光的抛光方法 [P].

李晖 ;

徐永宽 ;

程红娟 .

中国专利 :CN102952467A ,2013-03-06

[2]

抛光液及使用该抛光液的抛光方法 [P].

上村哲也 .

中国专利 :CN101333417A ,2008-12-31

[3]

金属材料的抛光液、抛光磨盘及抛光方法 [P].

白杨 ;

张志宇 ;

罗霄 ;

王孝坤 ;

张学军 .

中国专利 :CN113528027A ,2021-10-22

[4]

大尺寸硅片边缘的抛光液、抛光液制备方法及抛光方法 [P].

潘国顺 ;

陈高攀 ;

罗桂海 ;

罗海梅 ;

周艳 ;

潘立焱 .

中国专利 :CN113004804B ,2021-06-22

[5]

钨镍铁合金抛光液及合金表面抛光、金相制备方法 [P].

康仁科 ;

焦振华 ;

郭江 ;

董志刚 .

中国专利 :CN109269867A ,2019-01-25

[6]

抛光液及使用该抛光液的抛光方法 [P].

上村哲也 .

中国专利 :CN101397482A ,2009-04-01

[7]

一种铜电解抛光液及电解抛光方法 [P].

王振卫 ;

宣宇娜 ;

冯凯 ;

詹秦芳 ;

蒋继波 ;

李会英 .

中国专利 :CN114990685A ,2022-09-02

[8]

一种用于铜及铜合金的电化学抛光液以及抛光方法 [P].

吴博文 ;

王兴刚 ;

于海超 .

中国专利 :CN120844181A ,2025-10-28

[9]

一种铜电解抛光液及电解抛光方法 [P].

王振卫 ;

宣宇娜 ;

冯凯 ;

詹秦芳 ;

蒋继波 ;

李会英 .

中国专利 :CN114990685B ,2024-06-28

[10]

一种电解抛光液、抛光装置及抛光方法 [P].

胡晓文 ;

刘忙仔 ;

杨俊峰 ;

赵洪军 ;

刘美红 .

中国专利 :CN109778298A ,2019-05-21

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