一种高纯度电镀级氧化铜的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310414705.3

申请日：

2013-09-12

公开(公告)号：

CN103466683A

公开(公告)日：

2013-12-25

发明(设计)人：

廖奕坤张正淳徐佳琦

申请人：

申请人地址：

215332 江苏省苏州市昆山市花桥镇徐公桥路2号中茵商务花园D区7楼1126室

IPC主分类号：

C01G302

IPC分类号：

C22B700

代理机构：

苏州创元专利商标事务所有限公司 32103

代理人：

汪青

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-12-25	公开	公开
2015-11-25	授权	授权
2014-01-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101564934030 IPC(主分类):C01G 3/02 专利申请号:2013104147053 申请日:20130912

共 50 条

[1]

一种高纯度纳米氧化铜的制备方法 [P].

施本义 ;

陈玉娴 ;

康向京 ;

侯晓刚 ;

谢小明 ;

徐艳 ;

施辉 .

中国专利 :CN118062871A ,2024-05-24

[2]

一种电子级氧化铜粉的制备方法 [P].

廖桂祥 ;

朱莞烨 ;

毛恩阳 ;

唐定 ;

吴晨阳 ;

瞿希铭 ;

刘国晨 ;

王乾坤 .

中国专利 :CN121020637A ,2025-11-28

[3]

一种利用氯化铜蚀刻废液制备微米级氧化铜的方法 [P].

孙立 .

中国专利 :CN104591255A ,2015-05-06

[4]

一种高纯电镀级氧化铜的制备方法 [P].

周华梅 ;

陈立高 ;

付海涛 ;

陈培峰 ;

程凡雄 ;

石新红 .

中国专利 :CN104058445B ,2014-09-24

[5]

一种高纯电镀级氧化铜的生产方法 [P].

王永成 ;

吴阳东 ;

刘杨 ;

韩福勇 ;

廖悦鉴 ;

熊建民 .

中国专利 :CN103739000B ,2014-04-23

[6]

采用酸性蚀刻废液制备高纯氧化铜的方法 [P].

江德馨 ;

庄仓宏 ;

纪铭郁 .

中国专利 :CN101935062A ,2011-01-05

[7]

一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺 [P].

庄永 ;

邹鸿图 ;

赵中华 ;

钱丽花 .

中国专利 :CN101844793B ,2010-09-29

[8]

一种高纯度氧化铜干燥装置 [P].

刘晖 .

中国专利 :CN215724755U ,2022-02-01

[9]

一种氧化铜薄膜的制备方法 [P].

杨航 ;

关亚风 .

中国专利 :CN111239203B ,2020-06-05

[10]

氢氧化铜或氧化铜的制备方法 [P].

沈祖达 .

中国专利 :CN101195497A ,2008-06-11

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