一种陶瓷基片研磨抛光机

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201922015266.4

申请日：

2019-11-20

公开(公告)号：

CN210879103U

公开(公告)日：

2020-06-30

发明(设计)人：

黄安基

申请人：

申请人地址：

362000 福建省泉州市南安市罗东镇新雨亭东街

IPC主分类号：

B24B2700

IPC分类号：

B24B4102 B24B2902 B24B4704

代理机构：

代理人：

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-30	授权	授权

共 50 条

[1]

一种陶瓷基片研磨抛光机 [P].

张晓云 ;

方豪杰 ;

贺亦文 ;

肖汉宁 ;

李专 ;

杨现锋 .

中国专利 :CN214980190U ,2021-12-03

[2]

一种新型陶瓷基片研磨抛光机 [P].

尹本良 .

中国专利 :CN213673545U ,2021-07-13

[3]

氧化铍陶瓷基片研磨抛光机 [P].

江树昌 ;

陈光明 ;

张健凌 ;

张绍甫 .

中国专利 :CN217255086U ,2022-08-23

[4]

氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机 [P].

江树昌 ;

陈光明 ;

张健凌 ;

张绍甫 .

中国专利 :CN216681681U ,2022-06-07

[5]

一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机 [P].

黄安基 .

中国专利 :CN210879179U ,2020-06-30

[6]

一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机 [P].

陈猛 .

中国专利 :CN213917709U ,2021-08-10

[7]

一种研磨抛光机 [P].

李勇 .

中国专利 :CN205765528U ,2016-12-07

[8]

一种滚筒研磨抛光机 [P].

姬后兵 ;

刘俊男 .

中国专利 :CN222155138U ,2024-12-13

[9]

一种平面研磨抛光机 [P].

王宏臣 ;

胡田田 .

中国专利 :CN211841508U ,2020-11-03

[10]

研磨抛光机 [P].

郑勇 .

中国专利 :CN205765535U ,2016-12-07

← 1 2 3 4 5 →