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一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202023143809.X
申请日
:
2020-12-24
公开(公告)号
:
CN213917709U
公开(公告)日
:
2021-08-10
发明(设计)人
:
陈猛
申请人
:
申请人地址
:
333400 江西省景德镇市浮梁大道3号
IPC主分类号
:
B24B3700
IPC分类号
:
B24B3727
B24B4102
B24B4722
B24B4704
代理机构
:
北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427
代理人
:
陈娟
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-08-10
授权
授权
2022-12-02
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 37/00 申请日:20201224 授权公告日:20210810 终止日期:20211224
共 50 条
[1]
一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机
[P].
黄安基
论文数:
0
引用数:
0
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0
黄安基
.
中国专利
:CN210879179U
,2020-06-30
[2]
氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机
[P].
江树昌
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江树昌
;
陈光明
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陈光明
;
张健凌
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张健凌
;
张绍甫
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0
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张绍甫
.
中国专利
:CN216681681U
,2022-06-07
[3]
一种氮化硅陶瓷生产用微孔研磨抛光机
[P].
边策
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0
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边策
.
中国专利
:CN217045937U
,2022-07-26
[4]
一种陶瓷基片研磨抛光机
[P].
张晓云
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引用数:
0
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张晓云
;
方豪杰
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方豪杰
;
贺亦文
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贺亦文
;
肖汉宁
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肖汉宁
;
李专
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李专
;
杨现锋
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0
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杨现锋
.
中国专利
:CN214980190U
,2021-12-03
[5]
一种陶瓷基片研磨抛光机
[P].
黄安基
论文数:
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0
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黄安基
.
中国专利
:CN210879103U
,2020-06-30
[6]
氧化铍陶瓷基片研磨抛光机
[P].
江树昌
论文数:
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江树昌
;
陈光明
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陈光明
;
张健凌
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张健凌
;
张绍甫
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张绍甫
.
中国专利
:CN217255086U
,2022-08-23
[7]
一种新型陶瓷基片研磨抛光机
[P].
尹本良
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0
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0
尹本良
.
中国专利
:CN213673545U
,2021-07-13
[8]
一种氮化硅板材研磨抛光设备
[P].
柏小龙
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0
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机构:
埃克诺新材料(大连)有限公司
埃克诺新材料(大连)有限公司
柏小龙
.
中国专利
:CN222696851U
,2025-04-01
[9]
一种氮化硅陶瓷基片的制备方法
[P].
张景贤
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张景贤
;
戴金荣
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戴金荣
;
段于森
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段于森
.
中国专利
:CN114890797A
,2022-08-12
[10]
一种氮化硅陶瓷基片的制备方法
[P].
段小明
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段小明
;
张卓
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张卓
;
贾德昌
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贾德昌
;
杨治华
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杨治华
;
何培刚
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何培刚
;
周玉
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周玉
.
中国专利
:CN112573936B
,2021-03-30
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