等离子体处理装置、等离子体处理方法、等离子体处理装置的清洁方法和等离子体处理装置用压力调整阀

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980132951.1

申请日：

2009-08-27

公开(公告)号：

CN102132387A

公开(公告)日：

2011-07-20

发明(设计)人：

野沢俊久河本慎二岩崎征英

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L213065

IPC分类号：

C23C1644 H01L21205 H01L21304

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

李伟;舒艳君

法律状态：

专利权的视为放弃

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-02-12	专利权的视为放弃	专利权的视为放弃号牌文件类型代码:1606 号牌文件序号:101569545535 IPC(主分类):H01L 21/3065 专利申请号:2009801329511 放弃生效日:20110720
2011-07-20	公开	公开
2011-08-31	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101102910338 IPC(主分类):H01L 21/3065 专利申请号:2009801329511 申请日:20090827

共 50 条

[1]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

石川拓 ;

户部康弘 .

中国专利 :CN101622698B ,2010-01-06

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 ;

冈信介 .

中国专利 :CN100536634C ,2006-11-15

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

金子和史 .

中国专利 :CN114302547A ,2022-04-08

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

里吉务 ;

佐藤亮 ;

佐佐木和男 ;

齐藤均 .

中国专利 :CN100543944C ,2005-11-09

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN113170568A ,2021-07-23

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

米泽亮太 ;

高桥哲朗 ;

大崎良规 ;

铃木公贵 ;

齐藤智博 ;

山下润 ;

佐藤吉宏 ;

盐泽俊彦 ;

山崎幸一 ;

古木和弘 .

中国专利 :CN102753727A ,2012-10-24

[8]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

笹川大成 ;

熊仓翔 .

中国专利 :CN113745103A ,2021-12-03

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

塚原利也 ;

山边周平 ;

谷地晃汰 ;

佐藤徹治 ;

内田阳平 ;

铃木步太 ;

田村洋典 ;

花冈秀敏 ;

佐佐木淳一 .

日本专利 :CN111261511B ,2024-06-18

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

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