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基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201680068848.5
申请日
:
2016-11-17
公开(公告)号
:
CN108292599B
公开(公告)日
:
2018-07-17
发明(设计)人
:
小佐井一树
甲斐義广
五师源太郎
小宫洋司
藤本诚也
大塚贵久
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L21306
IPC分类号
:
H01L21304
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-08-10
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/306 申请日:20161117
2022-06-10
授权
授权
2018-07-17
公开
公开
共 50 条
[1]
基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质
[P].
吉田博司
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
吉田博司
;
石井佑树
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
石井佑树
.
日本专利
:CN110858556B
,2024-11-22
[2]
基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质
[P].
吉田博司
论文数:
0
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0
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0
吉田博司
;
石井佑树
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0
石井佑树
.
中国专利
:CN110858556A
,2020-03-03
[3]
基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质
[P].
佐藤秀明
论文数:
0
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0
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0
佐藤秀明
.
中国专利
:CN107895702A
,2018-04-10
[4]
基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质
[P].
田中裕司
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田中裕司
;
平山司
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平山司
;
稻田尊士
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稻田尊士
.
中国专利
:CN107492511A
,2017-12-19
[5]
基板液处理方法、基板液处理装置以及存储介质
[P].
本田拓巳
论文数:
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本田拓巳
;
佐野和成
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佐野和成
;
百武宏展
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百武宏展
.
中国专利
:CN110556294A
,2019-12-10
[6]
基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质
[P].
土屋孝文
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土屋孝文
;
石井佑树
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石井佑树
;
益富裕之
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益富裕之
;
藤津成吾
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藤津成吾
.
中国专利
:CN109494152A
,2019-03-19
[7]
基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质
[P].
益富裕之
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益富裕之
;
盐川俊行
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盐川俊行
;
田中幸二
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田中幸二
;
佐藤尊三
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佐藤尊三
.
中国专利
:CN107644824A
,2018-01-30
[8]
基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质
[P].
佐藤秀明
论文数:
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0
佐藤秀明
.
中国专利
:CN107579020A
,2018-01-12
[9]
基板液处理方法、基板液处理装置以及存储介质
[P].
本田拓巳
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
本田拓巳
;
佐野和成
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐野和成
;
百武宏展
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
百武宏展
.
日本专利
:CN110556294B
,2024-07-09
[10]
基板液处理装置和存储介质
[P].
河津贵裕
论文数:
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河津贵裕
;
土屋孝文
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土屋孝文
;
佐藤秀明
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佐藤秀明
;
荒竹英将
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荒竹英将
;
黑田修
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黑田修
;
永井高志
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永井高志
;
原田二郎
论文数:
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引用数:
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0
原田二郎
.
中国专利
:CN109494175A
,2019-03-19
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