一种对准装置、对准方法及光刻系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011025740.2

申请日：

2020-09-25

公开(公告)号：

CN114253093A

公开(公告)日：

2022-03-29

发明(设计)人：

孙建超

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G02B2728

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

孟金喆

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-29	公开	公开
2022-04-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 9/00 申请日:20200925

共 50 条

[1]

用于光刻装置的对准系统及对准方法 [P].

胡明辉 ;

李运锋 .

中国专利 :CN102207695A ,2011-10-05

[2]

光刻预对准装置及预对准方法、光刻设备 [P].

王刚 ;

黄栋梁 ;

杨思雨 ;

付红艳 .

中国专利 :CN111198483B ,2020-05-26

[3]

对准装置、光刻机及对准方法 [P].

高安 ;

邢奕飞 ;

孙建超 .

中国专利 :CN114690596A ,2022-07-01

[4]

对准装置、光刻机及对准方法 [P].

邢奕飞 ;

高安 ;

孙建超 .

中国专利 :CN114690594B ,2025-05-09

[5]

对准装置、光刻机及对准方法 [P].

邢奕飞 ;

高安 ;

孙建超 .

中国专利 :CN114690594A ,2022-07-01

[6]

对准装置、光刻机及对准方法 [P].

高安 ;

邢奕飞 ;

孙建超 .

中国专利 :CN114690596B ,2025-05-20

[7]

一种光刻装置和用于光刻装置的对准系统及对准方法 [P].

徐荣伟 ;

韦学志 ;

李运锋 ;

周畅 ;

李铁军 .

中国专利 :CN101135860B ,2008-03-05

[8]

光刻对准标记、制备方法、对准装置和对准方法 [P].

金浩 ;

席朝晖 ;

彭彬 .

中国专利 :CN121142927A ,2025-12-16

[9]

用于光刻装置的对准系统、光刻装置及其对准方法 [P].

徐荣伟 .

中国专利 :CN101551593A ,2009-10-07

[10]

用于光刻装置的对准标记、对准系统及其对准方法 [P].

胡明辉 ;

宋海军 ;

王海江 .

中国专利 :CN101581889B ,2009-11-18

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