一种超薄单晶NiCl2纳米片及其制备方法和应用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201811387760.7
申请日
2018-11-21
公开(公告)号
CN109537053B
公开(公告)日
2019-03-29
发明(设计)人
符立才 林晓霞 周灵平 朱家俊 杨武霖 李德意
申请人
申请人地址
410082 湖南省长沙市岳麓区麓山南路2号
IPC主分类号
C30B2912
IPC分类号
C30B2964 C30B2502
代理机构
长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114
代理人
蒋太炜
法律状态
实质审查的生效
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共 50 条
[41]
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[50]
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