剥离溶剂组合物、剥离方法及清洗溶剂组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680025000.4

申请日：

2016-05-09

公开(公告)号：

CN107532017B

公开(公告)日：

2018-01-02

发明(设计)人：

安藤敬二大槻记靖

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C09D900

IPC分类号：

C08J1106 C11D726 C11D730 C11D732

代理机构：

北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413

代理人：

赵曦;刘继富

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-01-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09D 9/00 申请日:20160509
2018-01-02	公开	公开

共 50 条

[1]

清洗用溶剂组合物 [P].

杨莉 ;

吴大成 ;

刘鹏 ;

许勇 .

中国专利 :CN103834225B ,2014-06-04

[2]

剥离液组合物、使用了该剥离液组合物的树脂层的剥离方法 [P].

金成正夫 ;

佐口琢哉 .

中国专利 :CN101878452B ,2010-11-03

[3]

溶剂组合物、气溶胶组合物、清洗剂及物品的清洗方法 [P].

佐久冬彦 ;

高田直门 ;

佐藤公纪 .

中国专利 :CN113444492A ,2021-09-28

[4]

溶剂组合物、气溶胶组合物、清洗剂及物品的清洗方法 [P].

佐久冬彦 ;

高田直门 ;

佐藤公纪 .

日本专利 :CN118516082A ,2024-08-20

[5]

溶剂组合物、气溶胶组合物、清洗剂及物品的清洗方法 [P].

佐久冬彦 ;

高田直门 ;

佐藤公纪 .

日本专利 :CN113444492B ,2024-05-17

[6]

剥离层形成用组合物和剥离层 [P].

江原和也 ;

进藤和也 .

中国专利 :CN109196051A ,2019-01-11

[7]

剥离层形成用组合物和剥离层 [P].

江原和也 ;

进藤和也 .

日本专利 :CN109196051B ,2025-02-18

[8]

剥离层形成用组合物和剥离层 [P].

江原和也 ;

进藤和也 .

中国专利 :CN109153852B ,2019-01-04

[9]

光照射剥离用的剥离剂组合物和光照射剥离用的粘接剂组合物 [P].

柳井昌树 ;

新城彻也 ;

奥野贵久 .

日本专利 :CN120344631A ,2025-07-18

[10]

剥离层形成用组合物 [P].

江原和也 ;

进藤和也 .

中国专利 :CN106133062A ,2016-11-16

← 1 2 3 4 5 →