高电子迁移率晶体管的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201210343034.1
申请日
2012-09-14
公开(公告)号
CN103681323A
公开(公告)日
2014-03-26
发明(设计)人
包琦龙 邓坚 罗军 赵超
申请人
申请人地址
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
IPC主分类号
H01L21335
IPC分类号
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
王宝筠
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
高电子迁移率晶体管及其制造方法 [P]. 
包琦龙 ;
邓坚 ;
罗军 ;
赵超 .
中国专利 :CN103681831B ,2014-03-26
[2]
高电子迁移率晶体管 [P]. 
乔夫·德卢伊 .
:CN110754002B ,2024-03-19
[3]
高电子迁移率晶体管 [P]. 
乔夫·德卢伊 .
中国专利 :CN110754002A ,2020-02-04
[4]
高电子迁移率晶体管 [P]. 
杨伟臣 ;
何伟志 .
中国专利 :CN120111925A ,2025-06-06
[5]
平面高电子迁移率晶体管 [P]. 
周翔 .
中国专利 :CN114664943A ,2022-06-24
[6]
高电子迁移率晶体管 [P]. 
魏星 ;
王中健 ;
狄增峰 ;
方子韦 .
中国专利 :CN103745989B ,2014-04-23
[7]
高电子迁移率晶体管 [P]. 
A·库迪姆 ;
J·拉姆德尼 ;
L·刘 .
中国专利 :CN105720096A ,2016-06-29
[8]
高电子迁移率晶体管的制造方法和高电子迁移率晶体管 [P]. 
山村拓嗣 ;
西口贤弥 ;
住吉和英 .
日本专利 :CN112614783B ,2025-09-05
[9]
高电子迁移率晶体管的制造方法和高电子迁移率晶体管 [P]. 
山村拓嗣 ;
西口贤弥 ;
住吉和英 .
中国专利 :CN112614783A ,2021-04-06
[10]
高电子迁移率晶体管以及高电子迁移率晶体管的制造方法 [P]. 
平崎贵英 .
日本专利 :CN120936064A ,2025-11-11