光学活性的羟腈化合物的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980112978.4

申请日：

2009-04-03

公开(公告)号：

CN102007095A

公开(公告)日：

2011-04-06

发明(设计)人：

中泽公一

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

C07C25308

IPC分类号：

C07C25536 C07B5300 C07B6100 C07D41304

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

朱丹

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-15	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C07C 253/08 申请日:20090403 授权公告日:20141008 终止日期:20210403
2011-04-06	公开	公开
2014-10-08	授权	授权
2011-05-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101072506783 IPC(主分类):C07C 253/08 专利申请号:2009801129784 申请日:20090403

共 50 条

[1]

钛化合物及光学活性羟腈类的制备方法 [P].

吉永一彦 ;

永田卓司 ;

宫添智 .

中国专利 :CN101039898A ,2007-09-19

[2]

光学活性化合物的制造方法 [P].

松井浩三 ;

池本哲哉 .

中国专利 :CN102471266A ,2012-05-23

[3]

光学活性的化合物的制造方法 [P].

利奥波德·恩帕卡·鲁特特 ;

萩谷弘寿 .

日本专利 :CN115836041B ,2024-09-17

[4]

光学活性的化合物的制造方法 [P].

高桥友章 ;

宇治田悟 .

中国专利 :CN106103413A ,2016-11-09

[5]

羟腈化合物的制造方法以及α-羟基酯化合物的制造方法 [P].

藤原直树 ;

中川和也 ;

木下雄一朗 ;

绿川晃二 .

中国专利 :CN101827809A ,2010-09-08

[6]

光学活性化合物或其盐的制造方法 [P].

尾野村治 ;

津田悠太郎 ;

栗山正巳 ;

柳利治 ;

儿玉和也 .

中国专利 :CN103415511A ,2013-11-27

[7]

光学活性醇化合物的制造方法 [P].

川浪弘贵 ;

西野幸宏 ;

村濑翔太 .

中国专利 :CN105246873A ,2016-01-13

[8]

光学活性化合物的制造方法 [P].

河原滋 ;

纲野裕右 ;

杉山雅一 .

中国专利 :CN101239941A ,2008-08-13

[9]

氟化烷基化合物的制造方法及光学活性氟化烷基化合物的制造方法 [P].

根上渡部阳太 ;

松村典明 ;

神谷武志 .

日本专利 :CN121219255A ,2025-12-26

[10]

具有光学活性的化合物的制备方法 [P].

奥山昌弘 ;

上原史朗 ;

岩村宽 ;

渡边和俊 .

中国专利 :CN102120741A ,2011-07-13

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