清洗装置及清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN98106441.8

申请日：

1998-01-24

公开(公告)号：

CN1194454A

公开(公告)日：

1998-09-30

发明(设计)人：

上川裕二上野钦也中敏

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21302

IPC分类号：

H01L21304 B08B304

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

杨丽琴

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-03-26	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101581032271 IPC(主分类):H01L 21/302 专利号:ZL981064418 申请日:19980124 授权公告日:20050608 终止日期:20130124
2005-06-08	授权	授权
1999-04-28	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
1998-09-30	公开	公开

共 50 条

[1]

清洗装置及清洗方法 [P].

史进 .

中国专利 :CN109570177B ,2019-04-05

[2]

清洗方法及清洗装置 [P].

黄远科 ;

范志翔 .

中国专利 :CN111346875A ,2020-06-30

[3]

清洗装置及清洗方法 [P].

杨辰 ;

郭再勋 ;

贾智伟 ;

张群桥 ;

德拉热·胡森 .

中国专利 :CN119489557A ,2025-02-21

[4]

硅片清洗方法及清洗装置 [P].

张珊 ;

鲁战锋 ;

任新刚 ;

成路 ;

杜杰 ;

张超 ;

李静 .

中国专利 :CN117790285A ,2024-03-29

[5]

晶片清洗装置及清洗方法 [P].

松永祐平 ;

冲田宪治 .

中国专利 :CN110911302A ,2020-03-24

[6]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

申埈燮 ;

张月 ;

杨涛 ;

卢一泓 ;

刘青 .

中国专利 :CN114226294A ,2022-03-25

[7]

方解石清洗装置及清洗方法 [P].

张文天 .

中国专利 :CN115193780B ,2024-01-23

[8]

探针清洗装置及探针清洗方法 [P].

刘杰 .

中国专利 :CN107030061B ,2017-08-11

[9]

清洗方法及装置 [P].

小林宽二 ;

工藤纯 ;

吉原信也 ;

山口正雄 .

中国专利 :CN1219758A ,1999-06-16

[10]

清洗装置及清洗方法 [P].

宋斌 ;

陈锐源 ;

张剑桥 ;

吴先燕 .

中国专利 :CN120709201A ,2025-09-26

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