阻隔膜的制备方法、阻隔膜、囊体与浮空器

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专利类型
发明
申请号
CN201610602051.0
申请日
2016-07-27
公开(公告)号
CN107662321A
公开(公告)日
2018-02-06
发明(设计)人
不公告发明人
申请人
申请人地址
523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区创新科技园1号楼5楼502房
IPC主分类号
B29C4700
IPC分类号
B29C4792 B29B700 C08L6700 C08L6702 C08K304 B64B158 B29L700
代理机构
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240
代理人
赵囡囡;吴贵明
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
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共 50 条
[1]
阻隔膜、阻隔膜的制备方法以及包括阻隔膜的制品 [P]. 
J·C·斯帕格诺拉 ;
M·A·勒里格 ;
T·P·科伦 ;
A·K·纳赫蒂加尔 ;
J·K·施诺布里奇 ;
G·D·乔利 .
中国专利 :CN104768758B ,2015-07-08
[2]
用于浮空器的高阻隔膜 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN205989540U ,2017-03-01
[3]
MDO阻隔膜、包含该阻隔膜的包装层压体、以及制备该阻隔膜的方法 [P]. 
程展 ;
阮东 .
美国专利 :CN118201776A ,2024-06-14
[4]
阻隔膜及其制备方法 [P]. 
华路 ;
彭辉 ;
朱伟健 .
中国专利 :CN106833304B ,2017-06-13
[5]
阻隔膜 [P]. 
杰罗姆·拉里尤 ;
皮埃尔·法耶 .
中国专利 :CN110546301A ,2019-12-06
[6]
阻隔膜 [P]. 
华路 ;
彭辉 ;
朱伟健 .
中国专利 :CN206551621U ,2017-10-13
[7]
阻隔膜形成装置、阻隔膜形成方法及阻隔膜被覆容器 [P]. 
浅原裕司 ;
山越英男 ;
团野实 ;
后藤征司 ;
白仓昌 ;
中谷正树 ;
广谷喜与士 .
中国专利 :CN101636523B ,2010-01-27
[8]
水氧阻隔膜的制备方法及水氧阻隔膜 [P]. 
林立 ;
高红杰 ;
殷立 .
中国专利 :CN119974736A ,2025-05-13
[9]
阻隔膜形成装置、阻隔膜形成方法及阻隔膜被覆容器 [P]. 
浅原裕司 ;
山越英男 ;
团野实 ;
后藤征司 ;
白仓昌 ;
中谷正树 ;
广谷喜与士 .
中国专利 :CN102605350A ,2012-07-25
[10]
气体阻隔膜及气体阻隔膜的制造方法 [P]. 
广濑达也 ;
大石清 .
中国专利 :CN106232346B ,2016-12-14