一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置

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专利类型
实用新型
申请号
CN201621261615.0
申请日
2016-11-23
公开(公告)号
CN206216510U
公开(公告)日
2017-06-06
发明(设计)人
陈从贺
申请人
申请人地址
350000 福建省福州市开发区M9511工业园4号楼三层(马尾工业建总内)(自贸试验区内)
IPC主分类号
B24B5700
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
专利权的终止
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共 50 条
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