一种化学研磨抛光液及研磨抛光方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710168716.6
申请日
2017-03-21
公开(公告)号
CN108624237B
公开(公告)日
2018-10-09
发明(设计)人
何友余 吴育祥 李德荣
申请人
申请人地址
201799 上海市青浦区白鹤镇外青松公路3560号1号楼2层A区2311室
IPC主分类号
C09G106
IPC分类号
C23F303
代理机构
上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297
代理人
赵霞
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
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