一种粉体材料低温等离子体表面处理方法及其装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110101689.3

申请日：

2011-04-22

公开(公告)号：

CN102744020A

公开(公告)日：

2012-10-24

发明(设计)人：

王红卫

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市苏州高新技术产业开发区泰山路2号

IPC主分类号：

B01J824

IPC分类号：

B01J1908

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-10-24	公开	公开
2013-08-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101507329261 IPC(主分类):B01J 8/24 专利申请号:2011101016893 申请日:20110422
2016-02-17	授权	授权

共 50 条

[1]

一种粉体材料表面低温等离子体处理装置 [P].

王红卫 .

中国专利 :CN202205701U ,2012-04-25

[2]

一种颗粒状物料低温等离子体表面处理方法及其装置 [P].

王红卫 .

中国专利 :CN102752950A ,2012-10-24

[3]

低温等离子体表面处理装置 [P].

李昇勋 ;

金度根 .

中国专利 :CN210110703U ,2020-02-21

[4]

一种粉体材料表面等离子体处理装置 [P].

沈文凯 ;

王红卫 .

中国专利 :CN103594319A ,2014-02-19

[5]

一种粉体材料表面等离子体处理装置 [P].

沈文凯 ;

王红卫 .

中国专利 :CN203562396U ,2014-04-23

[6]

一种粉体材料表面等离子体处理装置 [P].

尚书勇 ;

孙敏 .

中国专利 :CN104299882A ,2015-01-21

[7]

等离子体表面处理方法及装置 [P].

吴海英 .

中国专利 :CN102560439A ,2012-07-11

[8]

线圈外壳低温等离子体表面处理装置 [P].

刘鑫培 ;

朱小刚 ;

柳慧敏 .

中国专利 :CN206033862U ,2017-03-22

[9]

等离子体表面处理装置 [P].

吴海英 .

中国专利 :CN202519329U ,2012-11-07

[10]

一种等离子体粉体材料处理装置 [P].

张永起 ;

李晨 ;

陈智莲 .

中国专利 :CN214636296U ,2021-11-09

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