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硅片清洗装置及硅片双面清洗设备
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202021381043.6
申请日：
2020-07-14
公开(公告)号：
CN212461617U
公开(公告)日：
2021-02-02
发明(设计)人：
左国军
柯国英
李雄朋
申请人：
申请人地址：
213000 江苏省常州市新北区机电工业园宝塔山路9号
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
H01L21677
H01L21683
代理机构：
深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247
代理人：
万景旺
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-02-02 | 授权 | 授权 |